一种平面轮廓轨迹抗扰动跟踪控制方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201410653663.3
IPC分类号：G05B13/04
申请日期：
2014-11-17
申请人：
浙江工业大学

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著录项信息

专利名称	一种平面轮廓轨迹抗扰动跟踪控制方法
申请号	CN201410653663.3	申请日期	2014-11-17
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2015-04-08	公开/公告号	CN104503227A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G05B13/04 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G05 控制；调节 G05B 一般的控制或调节系统；这种系统的功能单元；用于这种系统或单元的监视或测试装置（应用流体作用的一般流体压力执行器或系统入F15B；阀门本身入F16K；仅按机械特征区分的入G05G；传感元件见相应小类，例如G12B，G01、H01的小类；校正单元见相应的小类，例如H02K） G05B13/00 自适应控制系统，即系统按照一些预定的准则自动调整自己使之具有最佳性能的系统（G05B 19/00优先；计算机零部件入G06F 15/18）〔3〕 G05B13/02 电的 G05B13/04 包括使用模型或模拟器的〔3〕	IPC分类号	G;0;5;B;1;3;/;0;4查看分类表>
申请人	浙江工业大学	申请人地址	浙江省杭州市下城区潮王路18号浙江工业大学科技处变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	浙江工业大学	当前权利人	浙江工业大学
发明人	何德峰;倪洪杰;余世明;滕游
代理机构	杭州杭诚专利事务所有限公司	代理人	尉伟敏

摘要

本发明公开了一种平面轮廓轨迹抗扰动跟踪控制方法。本方法以平面轮廓轨迹跟踪控制状态空间扰动数学模型为基础，通过引入跟踪位置信号的积分变量建立状态空间扰动扩展数学模型，再通过Matlab函数place计算控制器增益矩阵设计状态反馈抗扰动跟踪控制器，进而计算数控机床X轴和Y轴电机的输入电压，实现数控机床对平面轮廓轨迹位置函数sX与sY的高速、高精度的抗扰动跟踪控制。本发明的最重要的特征是直接采用双轴跟踪控制状态空间扰动数学模型设计轮廓轨迹控制器，实现两个主轴电机的同步协调跟踪控制；跟踪控制器只有两个调整参数，在线实施简便、可靠。

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