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结晶区温度梯度调节器与坩埚下降法单晶生长装置

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200810044561.6
  • IPC分类号:C30B11/00;F27B14/04;F27B14/06;F27B14/20
  • 申请日期:
    2008-04-10
  • 申请人:
    四川大学
著录项信息
专利名称结晶区温度梯度调节器与坩埚下降法单晶生长装置
申请号CN200810044561.6申请日期2008-04-10
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2008-11-26公开/公告号CN101311332
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B11/00IPC分类号C;3;0;B;1;1;/;0;0;;;F;2;7;B;1;4;/;0;4;;;F;2;7;B;1;4;/;0;6;;;F;2;7;B;1;4;/;2;0查看分类表>
申请人四川大学申请人地址
四川省成都市一环路南一段24号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人四川大学当前权利人四川大学
发明人朱世富;赵北君;何知宇;陈宝军;唐世红;王立苗
代理机构成都科海专利事务有限责任公司代理人黄幼陵
摘要
一种结晶区温度梯度调节器,由保温隔热材料制作的座板和保温隔热材料制作的动板组成,动板放置在座板所设置的凹槽中,其与凹槽为动配合。一种坩埚下降法单晶生长装置,包括上端封闭、下端开口的整体式炉体,安装在炉体上的加热器,安装安瓿的坩埚套,放置坩埚套的坩埚托,与坩埚托连接的升降旋转驱动机构,安装在炉膛结晶区B的上述结构结晶区温度梯度调节器;结晶区温度梯度调节器的座板固定在炉体上,旋转放置在座板凹槽中的动板,便可调节座板凹槽环面上调温孔I和动板环面上调温孔II的重合面积,从而调节从高温A区向低温C区辐射和传导的热流量,使结晶区B温度梯度可在大范围内调整,易于获得窄温区、大温梯的温场分布。

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