一种用于半导体装置的设备

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专利名称	一种用于半导体装置的设备
申请号	CN200410045521.5	申请日期	2004-05-28
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2005-02-02	公开/公告号	CN1574230
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	周星工程股份有限公司	申请人地址	韩国京畿道变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	周星工程股份有限公司	当前权利人	周星工程股份有限公司
发明人	韩政勋;李永锡;郑淳彬;李政范;金哲植;全昌烨;高在亿;金映录;沈成垠;李龙炫;刘真赫;姜大凤
代理机构	北京纪凯知识产权代理有限公司	代理人	程伟;王锦阳

摘要

一种用于一个半导体装置的设备，其包括：一个具有上部分及下部分之室，所述下部分的体积大于所述上部分的体积；一个位子所述室内的感受器，所述感受器在其上表面具有一个基板；一个将生产气体注入所述室的注入器；一个位于所述室上的线圈组；一个与所述线圈组相连的射频电源；和一个通过所述室的排气口。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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