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| 专利名称 | 清洗探针板上探针的方法及实施该方法的装置 |
| 申请号 | CN96190361.9 | 申请日期 | 1996-03-18 |
| 法律状态 | 权利终止 | 申报国家 | 中国 |
| 公开/公告日 | 1997-05-28 | 公开/公告号 | CN1150843 |
| 优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
| 主分类号 | 暂无 | IPC分类号 | 暂无查看分类表>
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| 申请人 | 菲利浦电子有限公司 | 申请人地址 | 荷兰艾恩德霍芬
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| 权利人 | 皇家菲利浦电子有限公司 | 当前权利人 | 皇家菲利浦电子有限公司 |
| 发明人 | E·霍兰达;A·里多 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 王勇;傅康 |
摘要
本发明涉及一种清洗装有探针(4)的探针板(1)的方法,按照该方法,通过将探针(4)暴露于清洗溶液(6)中来清洗探针(4)上的沾染物。按照本发明,该方法的特征在于,将探针(4)浸入溶液(6)中,仅使探针端部(4)与清洗溶液(6)相接触。由于仅将探针端部(14)浸入清洗溶液(6)中,不需要为了测量而防护探针板不受清洗溶液的沾染。因此,本发明方法易于采用。通过实际使用该清洗方法,能恢复探针板的原有性能。
1.一种清洗探针板的方法,该探针板装有用于与电气装置的测试点 形成电接触的探针,按照该方法,通过将探针暴露于清洗溶液中来清洗 探针上的沾染物,其特征在于,将探针浸入清洗溶液中,仅使探针的端 部接触清洗溶液。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,使用的清洗溶液腐蚀用 于测试点的材料,但不腐蚀或仅轻微腐蚀用于探针端部的材料。
3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,清洗具有含钨的探针的 探针板,沾染物含铝,将探针浸入稀释的氟化氢清洗水溶液中。
4.如权利要求2所述的方法,其特征在于,清洗具有含钨或钯的探 针的探针板,沾染物含金,将探针浸入含溶于水的碘和碘化钾的清洗溶 液中。
5.一种清洗探针板的装置,该探针板装有用于与电气装置的测试点 形成电接触的探针,该装置适合于通过将探针暴露于清洗溶液来清洗探 针的沾染物,其特征在于,该装置包含用于探针板的支承框架和用于清 洗溶液的容器,支承框架是可动的,以便将探针板上的探针朝容器移 动。
6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,一个电子电路能够提供 探针和清洗溶液之间电接触指示。
7.如权利要求5或6所述的装置,其特征在于,该容器经一个泵与 一用于清洗溶液的蓄存箱连接,并设有一连通到蓄存箱的溢流器。
本发明涉及一种清洗装有探针的探针板的方法,该探针用于与电气 装置的测试点形成电接触,按照该方法通过将探针暴露于清洗溶液中来 清洗各探针之上的沾染物。本发明还涉及一种用于实施该方法的装置。\n探针板用于测试例如半导体器件或印刷电路板等电气装置的电气 性能。探针板上装有一些要置于电气装置测试点上的探针。通常,将探 针板设计得与测试点的特定电路分布图形相符合。实际上,探针板随测 试所用时间加长性能会恶化。因此,探针板应随时清洗,以便恢复其原 有性能。\n日本专利申请JP-A-4338662的英文摘要公开了一种如开始段 所述的方法,它采用喷射一种清洗溶液使所用的探针板恢复性能。按照 这种已知的方法,使探针暴露于酸性或碱性水溶液中。利用一个圆柱形 屏蔽件将探针板与射流屏蔽开来。该屏蔽件利用一层树脂牢固地附着到 探针板上。\n上述已知方法的缺点是尽管使用了屏蔽件,喷射的清洗溶液还是会 沾染探针板。实际上。喷射的溶液由于遇到探针而转向并会例如沾染到 探针板的底部。此外,难于实现将屏蔽件满意地粘接到树脂层上,这是 因为如果粘接得太牢,就难于松开该屏蔽件而如果粘接得较弱,就有溶 液经过树脂层和探针板之间的间隙渗漏进去,因此沾染探针板。另外, 在实际上难于通过喷射来充分地清洗探针。\n本发明的目的正是要消除上述缺点。\n因此根据本发明,本方法的特征在于,将探针浸入清洗溶液中,仅 使它们的端部接触清洗溶液。\n按照这样一种方式实现了可以清洗探针板而不会粘染探针板。由于 仅使探针端部浸入清洗溶液,因而不需要屏蔽件。所以也就不存在与屏 蔽件的固紧和松开相关的问题。\n本发明是基于为保持探针板的良好性能仅需要清洗探针的考虑。在 已知的方法中所用的喷射溶液几乎清洗探针的整个长度。由于探针的端 部通常是很小的,按照已知的方法难于控制溶液喷射到探针端部而清洗 探针端部。相反,本发明的方法通用简单的浸入步骤,在那些用于形成 良好电接触的点,即探针的端部处清洗探针。\n例如金、银、铂、钨、钯、铜/铍或钼等材料可用于制造探针。有时 以隆起形状将例如金、银、铜、铝的材料或焊考用于形成装置的测试点。 探针和测试点是由不同的材料制成的。实际发现,引起电接触不良的沾 染物主要来自测试点。来自测试点的沾染物然后附着到探针上。虽然这 些沾染物本性是导电的,测试点也是由导电材料制成的,但发现附着到 探针上的该沾染物及其氧化物可能导致接触不良。根据本发明,所使用 的清洗溶液仅腐蚀用于测试点的材料,但不腐蚀(或只轻微腐蚀)用于 探针端部的材料。本发明是基于这样的考虑,即采用一种适用于测试点 材料的侵蚀剂,仅充分蚀洗探针,以便从探针上清除沾染物和氧化物, 但基本上不腐蚀探针的材料。腐蚀可以按照非电方式或电化学方式进 行。\n最好,清洗具有含钨的探针的探针板。由于钨非常耐用并能形成良 好的电接触,所以钨是一种非常适合作为探针的材料。本方法特别适合 于清洗用于接触含铝的测试点的探针板,因而,沾染物包含铝。铝易于 形成绝缘的氧化物。最好将探针浸入到氟化氢(HF)的稀释的清洗水 溶液中。这种溶液是对铝有高选择性的腐蚀剂,而对钨是非腐蚀性的。 此外,这种溶液可以非电方式使用,即不需要同时向探针通以电流来清 洗探针。因此,本方法实施十分简便。\n在本方法的第二实施例中,清洗具有含钨或钯的探针的探针板,而 沾染物含金。在这一实施例中,所清洗的探针用于测量含金的测试点。 根据本发明,附着到探针上的沾染物可以溶解在例如以含氰或碘的化学 物质为主的侵蚀金的溶液中,这种溶液并不腐蚀探针中的钯或钨。最好 将探针浸入到包含在水中被稀释的碘和碘化钾的清洗溶液中。这种溶液 能够产生良好清洗效果而不腐蚀钨或钯制探针。\n本发明还涉及一种用于清洗装有探针的探针板的装置,该探针用于 与电气装置的测试点形成电接触,该装置通过将探针暴露于清洗溶液中 适于清洗有沾染物的探针。\n日本专利申请JP-A-4338622的英文摘要,公开了这样一种装 置。在这种已知的装置中,采用喷射清洗溶液来重新恢复探针板的性 能。\n该已知的装置是难于使用的。例如必须利用一层树脂将一屏蔽件牢 固地附着到探针板上。此外,该装置必须产生清洗溶液的射流,使探针 的所有部分都暴露于清洗溶液。这一射流必须十分均匀或者必须精确地 瞄准探针。\n本发明的主要目的是提供一种简单而又易于使用的装置。\n因此根据本发明的该装置,其特征在于,该装置包含:用于探针板 的支承框架和用于清洗溶液的容器,支承框架是可动的,以便将探针板 上的探针朝容器移动。这种装置简单并易于使用。使用时,容器充有清 洗溶液。然后将探针朝着清洗溶液移动,从而将探针的端部浸入到清洗 溶液中。最好,该装置的特征在于,有一电子电路,能够对探针和清洗 溶液之间的电接触提供指示。为此,探针和清洗溶液都是简单电子电路 的组成部分,例如将探针与该电路电连接并将清洗溶液中的电极用作清 洗溶液的电触点。当探针接触清洗溶液时,电路可以检测出探针和清洗 溶液之间的电接触,指示灯可以显示这种状态。在各探针可能并不总是 处在相同的高度时,为了接触所有的探针,在开始接触之后,可以采用 使支承框架有一定量的附加移动,确保所有的探针都浸入到清洗溶液 中。最好,该装置的特征在于,将该容器用泵连接到一清洗溶液蓄存箱, 容器同时装有一连通到蓄存箱的溢流器,在使用时,将清洗溶液自蓄存 箱泵入该容器。为此,该容器经过泵连接到清洗溶液蓄存箱。在容器中 的清洗溶液保持恒定的液面,这是由于容器具有一如管嘴形的溢流器。 因此,由泵提供的过量的溶液经过溢流器回输到蓄存箱。容器中溶液的 恒定液面使得能够十分精确地浸入探针,即使没有使用电子电路来检测 探针和清洗溶液之间的电接触也能如此。采用泵和溢流器具有的另一优 点是清洗溶液可以不断地补充,因而清洗操作可多次重复进行。本发明 的装置易于使用。将探针板置于支承框架上,并将探针浸入到溶液中。 不需要象在已知装置中那样为探针板装屏蔽件。此外,与提供射流将探 针的所有部分都暴露于清洗溶液中相比,本装置更易于维持在容器中的 恒定液面。\n下面,参照以举例的方式给出附图更详细地解释本发明。其中:\n图1表示用于清洗探针板上的探针的装置的断面以及该方法。\n图1表示用于清洗装有探针4的探针板1的装置和方法,该探针4 用于与电子装置的测试点形成电接触,按照该方法,通过将探针4暴露 于清洗溶液6中来清洗沾染物。通常,探针板1包含很多探针4。这些 探针4通常被弯曲并形成尖形的端部14,以便能够将探针4精确地定 位在测试点上。在本清洁方法中,将探针板1置于支承框架2上。这个 支承框架2是可动的。使得能将探针板1上的探针4朝充有清洗溶液6 的容器10移动。根据本发明,按照这样一种方式将探针浸入清洗溶液 6,即仅探针端部4接触清洗溶液6中。为此,该装置设有可调螺栓装 置3。这些螺栓装置3限定了支承框架2的移动,因此亦限定了探针4 的移动。调整调节螺栓装置3,使得只有探针端部14能够接触清洗溶 液6。在实施清洗方法的过程中,构架2平稳地移动(在图1中为降低), 直到这种移动受到螺栓装置3的限制。因此实现了探针板1可受到清洗 而不沾污探针板。本发明基于这样的考虑,即为了保持探针板1的良好 性能,仅需要清洗探针4的端部14。\n清洗溶液6利用泵5由容有清洗溶液的蓄存箱12向容器10输送。 为此,容器10经过泵5连接到容有清洗溶液6的蓄存箱12。由于容器 10具有溢流管嘴8,容器10中的清洗溶液6保持在恒定的液面15。因 此,由泵5提供的过剩的溶液6经过溢流管嘴8回输到蓄存箱12。容 器10中溶液6的恒定液面15使得探针4能够十分精确地浸入。采用泵 5和溢流管嘴8具有的附加优点是清洗溶液可不断地补充,因而清洗操 作能多次重复。对于偶尔清洗的场合,可以考虑不带泵(静态清洗)的 更简单的设置。在这种情况下,能够对探针和清洗溶液之间的电接触提 供指示的电子电路是特别有益的。\n作为一个实例,介绍对于探针板1的清洗程序,该探针板1具有用 于测试具有铝测试点的半导体器件的钨探针4。根据本发明,使用的清 洗溶液6侵蚀用作测试点的材料(在这一实例中为铝),但不侵蚀用作 探针端部的材料(在这一实例中为钨)。本发明基于这样的考虑,即利 用对于测试点的材料侵蚀的溶液来充分蚀洗探针端部14,以便除去探 针端部14的沾染物。在这个实例中,将钨探针端部14浸入含水的5% 的氟化氢溶液6中持续5分钟。这种溶液对铝是极为优选的腐蚀剂,而 对钨是不腐蚀的。在除去沾染物后,探针4在第二装置(这里未表示, 但具有与图1所示装置相同的配置,但提供清洗用水,而不是清洗溶液) 中用水清洗,再对整个探针吹送干燥空气进行干燥。在此之后,恢复探 针板的原有性能,探针板准备再次用于测试装置。\n在第二实施例中,介绍用于测量金隆起点的钯制或钨制探针4的清 洗。在图1所示的装置中进行清洗,但使用不同的清洗溶液6。附着到 探针4上的沾染物可以溶解在任何已知的腐蚀金的溶液中,例如以含氰 或碘的化学物质为主的溶液中,该溶液并不腐蚀钯或钨制的探针4。作 为一个实例,使用碘化钾和碘的水溶液6,在这个实例中,按重量计1 份碘和按重量计3份碘化钾溶解在按重量计的10份水中。为了选择性 地从探针除去沾染物,将探针4的端部14浸入在图1所示的装置中的 清洗溶液6中持续15分钟。然后用水清洗探针,并在前述的环境中进 行干燥。在此之后,恢复探针板的原有性能,探针板准备再次用于测试 装置。\n很明显,在说明书中所介绍的实施例只不过意在表述本发明,在本 发明的范围内可以进行各种变化。例如,如果探针用除钨以外的材料制 成,而且如果测试点用除铝以外的材料制成,对于本技术领域的熟练人 员容易确定取哪一种清洗溶液作为浸蚀剂,它浸蚀测试点的材料,但不 侵蚀或轻微浸蚀探针的材料。
法律信息
- 2006-05-17
专利权的终止未缴年费专利权终止
专利权的终止未缴年费专利权终止
- 2003-06-18
- 1998-07-29
- 1997-05-28
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有引用任何外部专利数据! |
被引用专利(该专利被哪些专利引用)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有被任何外部专利所引用! |