用来确定物体微起伏和表层的光学性质的方法、一种用于该方法实现的调制显微镜

发明专利无效专利

申请号：
CN01822011.8
IPC分类号：--
申请日期：
2001-01-23
申请人：
阿姆弗拉实验室有限责任公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用来确定物体微起伏和表层的光学性质的方法、一种用于该方法实现的调制显微镜
申请号	CN01822011.8	申请日期	2001-01-23
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2004-03-31	公开/公告号	CN1486444
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	阿姆弗拉实验室有限责任公司	申请人地址	俄罗斯联邦科罗列夫变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	阿姆弗拉实验室有限责任公司	当前权利人	阿姆弗拉实验室有限责任公司
发明人	弗拉基米尔·安德列维奇·安德列夫;康斯坦丁·瓦西里耶维奇·英杜卡耶夫;巴维尔·亚里别尔托维奇·奥西波夫
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	冯谱

摘要

本发明涉及光学工程，特别涉及测量近表面层的光学材料常数微起伏和分布的方法，并且能够用于微电子工程、纳米技术、材料科学、医学、和生物学。本发明的目标是提高测量光学材料的起伏和分布的几何参数的空间分辨率、扩展包括光学各向异性常数的确定常数的范围、显著提高材料常数确定的精度、以及扩展研究的物体的数量。本发明公开了用于测量近表面层的微起伏以及光学特性的方法，以及用于实行所述方法的调制干涉显微镜。

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