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模场转换系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202011523042.5
  • IPC分类号:G02B6/14;G02B6/255;G02B6/26
  • 申请日期:
    2020-12-22
  • 申请人:
    光越科技(深圳)有限公司
著录项信息
专利名称模场转换系统
申请号CN202011523042.5申请日期2020-12-22
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-04-09公开/公告号CN112630888A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B6/14IPC分类号G;0;2;B;6;/;1;4;;;G;0;2;B;6;/;2;5;5;;;G;0;2;B;6;/;2;6查看分类表>
申请人光越科技(深圳)有限公司申请人地址
广东省深圳市龙华区观澜街道桂香社区观澜桂花路201号六韬城工业园(综合楼)202及(综合楼)301 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人光越科技(深圳)有限公司当前权利人光越科技(深圳)有限公司
发明人龙跃金;韦琪;张峰;陆海龙;苏习明;陆众
代理机构深圳市徽正知识产权代理有限公司代理人卢杏艳
摘要
本发明实施例公开了一种模场转换系统,其包括:入射光纤,包括入射端,所述入射端耦合至大模场尺寸波导,所述大模场尺寸波导连接至外部光学器件;出射光纤,包括出射端,所述出射端耦合至小模场尺寸波导;以及过渡光纤,连接所述入射光纤和所述出射光纤,用于将来自所述入射端的光传输至所述出射端,所述过渡光纤包括若干段熔接的光纤段,所述过渡光纤分别熔接至所述入射光纤和所述出射光纤;其中光纤芯径自所述入射光纤至所述出射光纤递减。

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