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核辐射探测器及其制作工艺

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN200410073283.9
  • IPC分类号:G01T1/29;G01T1/24
  • 申请日期:
    2004-11-11
  • 申请人:
    中国科学院近代物理研究所
著录项信息
专利名称核辐射探测器及其制作工艺
申请号CN200410073283.9申请日期2004-11-11
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2006-05-17公开/公告号CN1773309
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G01T1/29IPC分类号G;0;1;T;1;/;2;9;;;G;0;1;T;1;/;2;4查看分类表>
申请人中国科学院近代物理研究所申请人地址
甘肃省兰州市南昌路363号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院近代物理研究所当前权利人中国科学院近代物理研究所
发明人谭继廉;靳根明;田大宇;宁宝俊;王小兵;王宏伟;段利敏;袁小华;李松林;卢子伟;马连荣;徐瑚珊
代理机构兰州振华专利代理有限责任公司代理人张真
摘要
本发明主要涉及一种核辐射探测器,尤其涉及在高能物理和核物理中使用的位置灵敏探测器及其制作工艺。一种核辐射探测器,包括有硅基片,N型,其特征是探测窗口(1)是由相互平行的多个探测窗口(1)组成,有B+掺杂区(3),形成PN结,其上有Al层(2),并设有引线(7);两探测窗口(1)之间设有绝缘SiO2分割区(4);硅基片背面有P-掺杂区(5),形成N+欧姆接触,其上复有Al层(6),形成背电极。本发明的核辐射探测器具有优良的电特性和探测特性。在核物理实验中能同时测量核反应产物的能量和位置(角分布)信息,在得到非常好的位置分辨的同时得到相当好的能量分辨率。由于在工艺流程中严格控制和严格操作,采取特殊Cl离子处理,减少了SiO2层中的正电荷。并减少了SiO2-Si界面附近的表面态,使探测器的反向漏电流比其他工艺例如面垒工艺制备的探测器下降1~2个量级,达到nA量级。

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