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一种二维过渡金属硫族化合物的制备方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202110386315.4
  • IPC分类号:C30B25/00;C30B29/46;C30B29/64;C23C16/30;C23C16/01;C23C16/56
  • 申请日期:
    2021-04-12
  • 申请人:
    东北师范大学
著录项信息
专利名称一种二维过渡金属硫族化合物的制备方法
申请号CN202110386315.4申请日期2021-04-12
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2021-07-09公开/公告号CN113089088A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号C30B25/00IPC分类号C;3;0;B;2;5;/;0;0;;;C;3;0;B;2;9;/;4;6;;;C;3;0;B;2;9;/;6;4;;;C;2;3;C;1;6;/;3;0;;;C;2;3;C;1;6;/;0;1;;;C;2;3;C;1;6;/;5;6查看分类表>
申请人东北师范大学申请人地址
吉林省长春市南关区人民大街5268号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东北师范大学当前权利人东北师范大学
发明人辛星;陈佳美;张艳梅;刘为振;徐海阳
代理机构长春市东师专利事务所代理人张铁生;刘莹
摘要
本发明公开了一种二维过渡金属硫族化合物的制备方法,它包括:1)二维过渡金属硫族化合物单晶及薄膜的制备:2)高分子聚合物保护层的涂覆;3)电化学鼓泡转移二维过渡金属硫族化合物单晶及薄膜;4)高分子聚合物保护层的去除;制备的硫族化合物薄膜厚度为0.7~1.0nm;化合物单晶层数为1~10层,整个材料成分均一、厚度可控;优点:1)本方法制备速度快;2)本方法可在常压下进行,具有操作方便、易于调控和易于大面积制备等特点;3)金基底得以反复利用,从而降低制备成本;4)制备的单晶及薄膜,具有高结晶质量,均匀层数,优异的可见光透过性及较高的光致发光特性。

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