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能用于形成器件的涂敷方法以及涂敷装置

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202080017538.7
  • IPC分类号:B05D1/28;B05D3/00;B05D3/12;B05C1/02;B05C1/04
  • 申请日期:
    2020-03-04
  • 申请人:
    株式会社东芝;东芝能源系统株式会社
著录项信息
专利名称能用于形成器件的涂敷方法以及涂敷装置
申请号CN202080017538.7申请日期2020-03-04
法律状态公开申报国家中国
公开/公告日2021-11-05公开/公告号CN113613798A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号B05D1/28IPC分类号B;0;5;D;1;/;2;8;;;B;0;5;D;3;/;0;0;;;B;0;5;D;3;/;1;2;;;B;0;5;C;1;/;0;2;;;B;0;5;C;1;/;0;4查看分类表>
申请人株式会社东芝;东芝能源系统株式会社申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社东芝,东芝能源系统株式会社当前权利人株式会社东芝,东芝能源系统株式会社
发明人内藤胜之;信田直美;熊田贵志;齐田穰
代理机构中国贸促会专利商标事务所有限公司代理人李鹏宇
摘要
提供能简便且廉价地制造具有长条状单体的器件的涂敷方法以及能用于该涂敷方法的涂敷装置。涂敷方法和用于进行该涂敷方法的装置在通过弯液面涂敷在排列在基材上的长条状的单体基层上形成涂敷膜的涂敷方法中,(a)将涂敷杆头和上述基材配置成大致平行;(b)将向形成弯液面的部分供给涂敷液的多个涂敷喷嘴配置成邻接的2个上述涂敷喷嘴的中央部分与邻接的2个上述长条状的单体基层的分离区域一致;(c)一边从上述涂敷喷嘴供给上述涂敷液,一边移动上述基材或者上述涂敷杆头,形成上述涂敷膜。

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