一种用于光阻机的晶背清洁机构

实用新型专利有效专利

申请号：
CN202022328139.2
IPC分类号：H01L21/67;B08B5/02;G03F7/20
申请日期：
2020-10-19
申请人：
广州市鸿浩光电半导体有限公司

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著录项信息

专利名称	一种用于光阻机的晶背清洁机构
申请号	CN202022328139.2	申请日期	2020-10-19
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日		公开/公告号
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01L21/67 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G 9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中半导体器件的使用见该应用的小类）〔2〕 H01L21/00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备〔2，8〕 H01L21/67 专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置〔8〕	IPC分类号	H;0;1;L;2;1;/;6;7;;;B;0;8;B;5;/;0;2;;;G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人	广州市鸿浩光电半导体有限公司	申请人地址	广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	广州市鸿浩光电半导体有限公司	当前权利人	广州市鸿浩光电半导体有限公司
发明人	冯嘉荔
代理机构	广州正驰知识产权代理事务所（普通合伙）	代理人	洪安鹏

摘要

本实用新型公开了一种用于光阻机的晶背清洁机构，属于光阻机中清洁圆晶片技术领域，该清洁机构包括外壳体，在外壳体内装配有吹气管，所述的外壳体表面装配有喷吹管，喷吹管与外壳体内的吹气管连通；所述的喷吹管包括竖直段和倾斜段，倾斜段与所述的竖直段连通，且竖直段与所述的吹气管连通。喷吹管的倾斜设置提高了圆晶片的清理效果，且喷吹管的喷吹方向根据需要进行调节，方便人们使用；本实用新型中的喷吹管的喷吹速度由于调节机构的设置便于调节，进一步提高了圆晶片的清理效果，另外，本实用新型中吹气管在外壳体内方便拆卸安装，使用方便，实用性强。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

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