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用于在外极约束下计算光流的方法

发明专利无效专利

申请号：
CN02821847.7
IPC分类号：--
申请日期：
2002-10-02
申请人：
皇家飞利浦电子股份有限公司

基础信息

权利要求

说明书

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	用于在外极约束下计算光流的方法
申请号	CN02821847.7	申请日期	2002-10-02
法律状态	撤回	申报国家	中国
公开/公告日	2005-02-16	公开/公告号	CN1582460
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	皇家飞利浦电子股份有限公司	申请人地址	荷兰艾恩德霍芬变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司	当前权利人	皇家飞利浦电子股份有限公司
发明人	M·特拉科维
代理机构	中国专利代理（香港）有限公司	代理人	程天正;王忠忠

摘要

通过稀疏光流计算来识别在一个图像序列内的图像之间的点匹配，以用于计算该外极几何的基本矩阵，接着使用该外极几何来导出用于为所述图像序列计算稠密光流的外极几何约束。该外极几何约束可以进一步与局部试探性限制或增强统计学方法结合。使用外极几何约束实现了计算光流中的精度和性能上的改善。

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