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静电卡盘

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201811048903.1
  • IPC分类号:H01L21/683
  • 申请日期:
    2018-09-10
  • 申请人:
    北京华卓精科科技股份有限公司
著录项信息
专利名称静电卡盘
申请号CN201811048903.1申请日期2018-09-10
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-03-17公开/公告号CN110890305A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/683IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;6;8;3查看分类表>
申请人北京华卓精科科技股份有限公司申请人地址
北京市大兴区北京经济技术开发区地盛北街1号院41号楼18层1802 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京华卓精科科技股份有限公司当前权利人北京华卓精科科技股份有限公司
发明人杨鹏远;张玉利;王建冲;侯占杰;唐娜娜;韩玮琦;黎远成;荣吉平;姜鑫
代理机构北京头头知识产权代理有限公司代理人刘锋
摘要
本发明涉及蚀刻设备领域,其目的是提供一种静电卡盘,用于待蚀刻晶片的载台。所述静电卡盘包括绝缘层、金属基座和介于绝缘层与金属基座之间的加热层,在所述绝缘层和金属基座相贴合面的至少其中之一上设有凹槽,借助凹槽使绝缘层与金属基座组装在一起后界定出一个容纳室,该容纳室内安装加热层、加热层与绝缘层之间的第一粘接材料层、以及加热层与金属基座之间的第二粘接材料层,所述容纳室具有侧壁。其中在加热层的周围与侧壁之间或者所述侧壁的外侧套设有陶瓷环。本发明利用容纳室的侧壁和陶瓷环对加热层上下面的粘接材料层起到保护作用,防止被蚀刻气体所腐蚀,导致静电卡盘表面温度不均匀,各层粘接部件翘曲等影响静电卡盘使用寿命的问题。

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