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一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201010224532.5
  • IPC分类号:G03F7/00
  • 申请日期:
    2010-07-13
  • 申请人:
    苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学
著录项信息
专利名称一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法
申请号CN201010224532.5申请日期2010-07-13
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2011-01-12公开/公告号CN101943859A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/00IPC分类号G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人苏州苏大维格光电科技股份有限公司;苏州大学申请人地址
江苏省苏州市工业园区钟南街478号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人苏州苏大维格光电科技股份有限公司,苏州大学当前权利人苏州苏大维格光电科技股份有限公司,苏州大学
发明人吴智华;周小红;申溯;魏国军;浦东林;陈林森
代理机构暂无代理人暂无
摘要
一种卷对卷紫外纳米压印装置及方法,该装置包括传输装置、涂布装置、预固化装置、压印装置和强固化装置,该涂布装置将紫外光胶均匀的涂布于由传输装置传输的待压印材料上,经预固化装置流平和半固化之后,送至压印装置进行压印,最后通过强固化装置硬化成型。相对于现有的纳米压印技术,本发明的压印装置具有更高的生产效率和良率。本发明还揭示了一种利用上述装置实现卷对卷紫外纳米压印的方法。

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