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光学成像膜

实用新型专利有效专利
  • 申请号:
    CN201921395612.X
  • IPC分类号:G02B3/00
  • 申请日期:
    2019-08-26
  • 申请人:
    昇印光电(昆山)股份有限公司
著录项信息
专利名称光学成像膜
申请号CN201921395612.X申请日期2019-08-26
法律状态授权申报国家暂无
公开/公告日公开/公告号
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G02B3/00IPC分类号G;0;2;B;3;/;0;0查看分类表>
申请人昇印光电(昆山)股份有限公司申请人地址
江苏省苏州市昆山市玉山镇元丰路33号2号房 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人昇印光电(昆山)股份有限公司当前权利人昇印光电(昆山)股份有限公司
发明人郑伟伟;申溯;孙超
代理机构北京汇思诚业知识产权代理有限公司代理人王刚;龚敏
摘要
本申请实施例提供一种光学成像膜,包括:聚焦层,具有两个或两个以上的聚焦结构;图文层,具有两个或两个以上的微图文;辅助层,辅助层用于掩盖至少部分的微图文的部分图案,且微图文未被辅助层掩盖的部分形成子图文,以使至少部分的子图文设置为微图文的部分图案;其中,聚焦层与图文层相适配,且聚焦结构与子图文对应设置,以使光学成像膜呈现微图文的影像,且为具有放大效果的影像。本申请中,该光学成像膜包括辅助层,该辅助层用于掩盖至少部分微图文的部分图案,辅助层能够对从微图文反射进入聚焦结构而未参与莫尔成像的光线具有一定的遮挡作用,从而消除或减少杂散光,以提高莫尔成像的清晰度,从而提高成像质量。

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