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一种IO口间无相互干扰的低电容多通道瞬态电压抑制器

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201410673950.0
  • IPC分类号:H01L27/02;H01L27/06;H01L21/8222;H01L21/265
  • 申请日期:
    2014-11-21
  • 申请人:
    杭州启沛科技有限公司
著录项信息
专利名称一种IO口间无相互干扰的低电容多通道瞬态电压抑制器
申请号CN201410673950.0申请日期2014-11-21
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2015-03-25公开/公告号CN104465649A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/02IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;0;2;;;H;0;1;L;2;7;/;0;6;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;2;2;;;H;0;1;L;2;1;/;2;6;5查看分类表>
申请人杭州启沛科技有限公司申请人地址
浙江省绍兴市舜江路683号21楼2111室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人绍兴米来电子科技有限公司当前权利人绍兴米来电子科技有限公司
发明人蔡银飞;翟东媛;蒋金鸿;朱俊;赵毅
代理机构南京瑞弘专利商标事务所(普通合伙)代理人陈建和
摘要
低电容多通道瞬态电压抑制器,包括P+半导体衬底,P‑外延层位于P+半导体衬底上;外延层上从左到右分别有包含第一环形P+有源注入区的左端,第一N阱,第一环形P+有源注入区的右端,第二N阱,第一P阱,第三N阱,第二环形P+有源注入区的左端,第四N阱,第二环形P+有源注入区的右端。所述的第一N阱和第四N阱上分别设有第一N+有源注入区和第五N+有源注入区;所述的第二N阱上设有第二N+有源注入区和第二P+有源注入区;所述的第一P阱上设有第三N+有源注入区;所述的第三N阱上设有第四N+有源注入区和第三P+有源注入区。

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