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一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201510446458.4
  • IPC分类号:G03F7/20
  • 申请日期:
    2015-07-27
  • 申请人:
    中国科学院理化技术研究所
著录项信息
专利名称一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统
申请号CN201510446458.4申请日期2015-07-27
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-05-24公开/公告号CN106707692A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0查看分类表>
申请人中国科学院理化技术研究所申请人地址
北京市海淀区中关村东路29号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院理化技术研究所当前权利人中国科学院理化技术研究所
发明人段宣明;董贤子;郑美玲
代理机构北京正理专利代理有限公司代理人张文祎
摘要
本发明提供了一种跨尺度结构协同工作的无掩模光刻系统,包括:激光逐点扫描曝光单元,面投影曝光单元,移动台和计算控制单元,其中,计算控制单元将待曝光图形进行分解,以使得精度要求在预定阈值以下的图形由激光逐点扫描单元实现曝光,精度要求大于预定阈值的图形由面投影曝光单元实现曝光;在对该移动台上的样品进行激光逐点扫描曝光时,根据该精度要求在预定阈值以下的图形,该激光逐点扫描曝光单元出射的光相对该样品移动,从而实现对该样品的激光逐点扫描曝光;在对样品进行面投影曝光时,面投影曝光单元根据精度要求大于预定阈值的图形出射具有对应图形形状的光到样品上,以实现对样品的面投影曝光。

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