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聚二甲基硅氧烷的用途、荧光薄膜及其制备方法

发明专利有效专利

申请号：
CN201610348819.6
IPC分类号：C08L83/04;C08K5/01;C08K5/3465
申请日期：
2016-05-24
申请人：
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	聚二甲基硅氧烷的用途、荧光薄膜及其制备方法
申请号	CN201610348819.6	申请日期	2016-05-24
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2016-09-28	公开/公告号	CN105968812A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	C08L83/04 ? IPC结构图谱： C 化学；冶金 C0 化学 C08 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 C08L 高分子化合物的组合物（基于可聚合单体的组成成分入C08F、C08G；人造丝或纤维入D01F；织物处理的配方入D06）〔2〕 C08L83/00 由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物〔2〕 C08L83/04 聚硅氧烷〔2〕	IPC分类号	C;0;8;L;8;3;/;0;4;;;C;0;8;K;5;/;0;1;;;C;0;8;K;5;/;3;4;6;5查看分类表>
申请人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	申请人地址	吉林省长春市经济技术开发区东南湖大路3888号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所	当前权利人	中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
发明人	郝鹏;冯宇祥;吴一辉
代理机构	北京集佳知识产权代理有限公司	代理人	赵青朵

摘要

本发明提供了一种聚二甲基硅氧烷在制备荧光薄膜中的应用。与现有技术相比，本发明以聚二甲基硅氧烷作为荧光染料的溶剂及成膜基质，聚二甲基硅氧烷的紫外透过率较好，可与融石英玻璃基片形成单层减反射膜结构，增加光谱的透过率，且聚二甲基硅氧烷化学性质稳定，在使用之前即为液态胶体，80℃加热一小时即可固化，因此在制备过程及成膜后都十分安全、稳定，同时也可长期保持荧光薄膜的特性。

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