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传送装置、基板离子植入系统以及方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201710607786.7
  • IPC分类号:--
  • 申请日期:
    2017-07-24
  • 申请人:
    武汉华星光电半导体显示技术有限公司
著录项信息
专利名称传送装置、基板离子植入系统以及方法
申请号CN201710607786.7申请日期2017-07-24
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2017-12-05公开/公告号CN107437522A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号暂无IPC分类号暂无查看分类表>
申请人武汉华星光电半导体显示技术有限公司申请人地址
湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人武汉华星光电半导体显示技术有限公司当前权利人武汉华星光电半导体显示技术有限公司
发明人谢锐
代理机构深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)代理人钟子敏
摘要
本发明公开了一种传送装置、基板离子植入系统以及方法。该系统包括:基板承台和与基板承台连接的离子植入装置,基板可从基板承台进入离子植入装置;离子植入装置包括操作腔,基板可通过离子植入装置被传送至操作腔中进行离子植入;传送腔,用于将进行离子植入后的基板回传至基板承台。通过上述方式,本发明能够提高离子植入系统的产能。

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