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半导体与光电制程尾气处理方法

发明专利无效专利

申请号：
CN200510085975.X
IPC分类号：B01D53/78;B01D53/68
申请日期：
2005-07-21
申请人：
炁宇理研股份有限公司;郭年宏

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	半导体与光电制程尾气处理方法
申请号	CN200510085975.X	申请日期	2005-07-21
法律状态	撤回	申报国家	暂无
公开/公告日	2007-01-24	公开/公告号	CN1899674
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B01D53/78 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B0 分离；混合 B01 一般的物理或化学的方法或装置 B01D 分离（用湿法从固体中分离固体入B03B、B03D，用风力跳汰机或摇床入B03B，用其他干法入B07；固体物料从固体物料或流体中的磁或静电分离，利用高压电场的分离入B03C；离心机、涡旋装置入B04B；涡旋装置入B04C；用于从含液物料中挤出液体的压力机本身入B30B 9/02）〔5〕 B01D53/00 气体或蒸气的分离；从气体中回收挥发性溶剂的蒸气；废气例如发动机废气、烟气、烟雾、烟道气或气溶胶的化学或生物净化（通过冷凝作用回收挥发性溶剂入B01D 5/00；升华入B01D 7/00；冷凝阱，冷挡板入B01D 8/00；难凝聚的气体和空气用液化方法分离入F25J 3/00）〔3，5〕 B01D53/34 废气的化学或生物净化〔3，6〕 B01D53/74 净化废气的一般方法；为这类方法特别设计的设备或装置（B01D 53/92优先）〔6〕 B01D53/77 液相方法〔6〕 B01D53/78 利用气—液接触〔6〕	IPC分类号	B;0;1;D;5;3;/;7;8;;;B;0;1;D;5;3;/;6;8查看分类表>
申请人	炁宇理研股份有限公司;郭年宏	申请人地址	中国台湾台北市变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	炁宇理研股份有限公司,郭年宏	当前权利人	炁宇理研股份有限公司,郭年宏
发明人	郭年宏
代理机构	中原信达知识产权代理有限责任公司	代理人	文琦;陈肖梅

摘要

本发明为一种半导体与光电制程尾气处理方法，将水(H2O)激化成电浆态(Plasma status)，同时利用电浆所产生的高温与H和O的自由基来破坏与反应有毒废气与含氟与氯等卤素化合物，使破坏后的有毒废气与H和O同时化合，而让有毒气体化合成无毒性或毒性较低的气体，以有效将低废气处理所需的成本及时间，且H2O取得相当容易及便宜，可大幅地降低处理成本。

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