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将一施覆的基材作线型构造化以制造薄层太阳电池模块的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201210272280.2
  • IPC分类号:H01L31/18;H01L21/66
  • 申请日期:
    2012-08-01
  • 申请人:
    耶恩光学自动化技术股份有限公司
著录项信息
专利名称将一施覆的基材作线型构造化以制造薄层太阳电池模块的方法
申请号CN201210272280.2申请日期2012-08-01
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2013-02-06公开/公告号CN102916074A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L31/18IPC分类号H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;H;0;1;L;2;1;/;6;6查看分类表>
申请人耶恩光学自动化技术股份有限公司申请人地址
德国耶拿 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人耶恩光学自动化技术股份有限公司当前权利人耶恩光学自动化技术股份有限公司
发明人尤格·海奇格;萨巴斯汀·史丹巴赫;法兰克·杉朵
代理机构北京银龙知识产权代理有限公司代理人黄灿;程美琼
摘要
一种将一施覆的基材作线型构造化以制造薄层太阳电池模块的方法,其中在一上层结构平面内产生与一下层结构平面内已有沟槽之分布相匹配的沟槽,为此需用推导自所述已有沟槽之影像的控制因子沿y向控制构造化工具(8),并且使该基材(1)在该构造化工具(8)下方来回移动。仅在正向送料时拍摄用以侦测已有沟槽的影像。在正向及反向送料时开设沟槽。

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