干刻蚀设备

发明专利有效专利

申请号：
CN201810395974.2
IPC分类号：H01J37/32;H01L21/67
申请日期：
2018-04-27
申请人：
武汉华星光电技术有限公司

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法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	干刻蚀设备
申请号	CN201810395974.2	申请日期	2018-04-27
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2018-09-28	公开/公告号	CN108597978A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	H01J37/32 ? IPC结构图谱： H 电学 H9 电学 H01 基本电气元件 H01J 放电管或放电灯（火花隙入H01T；消耗电极的弧光灯入H05B；粒子加速器入H05H） H01J37/00 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的（H01J 33/00、H01J 40/00、H01J 41/00、H01J 47/00、H01J 49/00优先）〔2，5〕 H01J37/32 充气放电管（放电加热的入H05B）	IPC分类号	H;0;1;J;3;7;/;3;2;;;H;0;1;L;2;1;/;6;7查看分类表>
申请人	武汉华星光电技术有限公司	申请人地址	湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	武汉华星光电技术有限公司	当前权利人	武汉华星光电技术有限公司
发明人	吴帆
代理机构	深圳市德力知识产权代理事务所	代理人	林才桂;程晓

摘要

本发明提供一种干刻蚀设备，包括用于对基板进行干法刻蚀的工艺腔，所述工艺腔内设置有上电极部及下电极部，所述上电极部、下电极部及工艺腔壁之间构成等离子体真空放电区，所述下电极部包括下电极板、静电吸附平台及边缘的边缘保护板，所述工艺腔壁上覆盖有周边保护件，所述边缘保护板以及周边保护件与等离子体真空放电区相连接的表面均涂覆有一层氧化钇的保护膜，能够有效延长边缘保护板和周边保护件的使用寿命，从而有效提高干刻蚀设备的保养周期，增加干刻蚀设备的正常工作时间，降低耗材费用，减少维护成本及产能损失。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

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