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一种阵列基板及其制备方法和显示装置

发明专利有效专利

申请号：
CN201310388775.6
IPC分类号：G02F1/1368;G02F1/1333
申请日期：
2013-08-30
申请人：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司

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著录项信息

专利名称	一种阵列基板及其制备方法和显示装置
申请号	CN201310388775.6	申请日期	2013-08-30
法律状态	授权	申报国家	中国
公开/公告日	2013-12-25	公开/公告号	CN103472646A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G02F1/1368 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G02 光学 G02F 用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器〔2，4〕 G02F1/00 控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学〔2，4〕 G02F1/01 对强度、相位、偏振或颜色的控制（G02F 1/29、G02F 1/35优先）〔2，7〕 G02F1/13 基于液晶的，例如单位液晶显示单元〔2〕 G02F1/133 构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置（用于控制矩阵中液晶元件并且在结构上不与这些元件相连的装置或电路入G09G 3/36）〔3，7〕 G02F1/136 结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元（G02F 1/135优先）〔5〕 G02F1/1362 有源矩阵寻址单元〔7〕 G02F1/1368 其中开关元件为三电极装置〔7〕	IPC分类号	G;0;2;F;1;/;1;3;6;8;;;G;0;2;F;1;/;1;3;3;3查看分类表>
申请人	京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	申请人地址	北京市朝阳区酒仙桥路10号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司	当前权利人	京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
发明人	孙建;李成;安星俊;柳奉烈
代理机构	北京同达信恒知识产权代理有限公司	代理人	黄志华

摘要

本发明提供了一种阵列基板及其制备方法和显示装置，用以解决现有技术中工艺复杂、成本高、耗时长的问题，同时达到增大存储电容的目的，所述阵列基板上的数据线和公共电极线同层设置在衬底基板上，且位于有源层下方，数据线和共电极线相隔设置，公共电极上设置有连接区，连接区在正投影方向上至少部分与公共电极线重叠，公共电极与公共电极线通过连接区与公共电极线之间的第一过孔实现电连接。

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