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一种乙烯裂解炉温度系统的新型自抗扰控制方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN202010511736.0
  • IPC分类号:G05B13/04
  • 申请日期:
    2020-06-08
  • 申请人:
    杭州电子科技大学
著录项信息
专利名称一种乙烯裂解炉温度系统的新型自抗扰控制方法
申请号CN202010511736.0申请日期2020-06-08
法律状态实质审查申报国家中国
公开/公告日2020-09-18公开/公告号CN111679578A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G05B13/04IPC分类号G;0;5;B;1;3;/;0;4查看分类表>
申请人杭州电子科技大学申请人地址
浙江省杭州市钱塘新区白杨街道2号大街 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人杭州电子科技大学当前权利人杭州电子科技大学
发明人刘晓伟;张日东
代理机构浙江千克知识产权代理有限公司代理人周希良
摘要
本发明涉及一种乙烯裂解炉温度系统的新型自抗扰控制的设计方法。本发明的目的是为了让乙烯裂解炉温度系统的ADRC控制器有实时在线调整参数的能力,从而使系统在各个状态下都有较好的控制性能,故考虑在ADRC的基础上引入了模糊PID的算法,通过模糊控制规则在线对自抗扰控制器的参数进行实时调整,满足不同误差及误差变化率条件下的自抗扰控制器的要求。本发明的技术方案是通过自抗扰控制的分离定理,分别构造微分跟踪器、扩张状态观测器和由模糊控制器改进的非线性反馈环节,提出了一种乙烯裂解炉温度系统的新型自抗扰控制方法,该方法可有效提高系统的控制性能。

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