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由分层结构制造单片传感器器件的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201880036960.X
  • IPC分类号:H01L27/146;H01L31/18;H01L31/0304
  • 申请日期:
    2018-06-01
  • 申请人:
    格拉斯哥大学校董会
著录项信息
专利名称由分层结构制造单片传感器器件的方法
申请号CN201880036960.X申请日期2018-06-01
法律状态实质审查申报国家暂无
公开/公告日2020-01-17公开/公告号CN110709991A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/146IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;4;6;;;H;0;1;L;3;1;/;1;8;;;H;0;1;L;3;1;/;0;3;0;4查看分类表>
申请人格拉斯哥大学校董会申请人地址
英国格拉斯哥 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人格拉斯哥大学校董会当前权利人格拉斯哥大学校董会
发明人大卫·罗伯·西姆·卡明;谢承志;文森佐·普西诺
代理机构广州三环专利商标代理有限公司代理人熊永强
摘要
一种制造场效应晶体管的方法,其中在蚀刻栅极凹部之前去除自然氧化物层。清洁步骤确保跨越整个样本同时开始蚀刻所述栅极凹部,使得可以跨越场效应晶体管阵列实现一致的栅极凹部深度和轮廓。这导致所述阵列中的所述场效应晶体管的高度一致的关断电压。

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