光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法

发明专利有效专利

申请号：
CN200910048695.X
IPC分类号：G01N17/00;G01N21/88;G01N21/49
申请日期：
2009-04-01
申请人：
中国科学院上海光学精密机械研究所

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法
申请号	CN200910048695.X	申请日期	2009-04-01
法律状态	授权	申报国家	暂无
公开/公告日	2009-09-09	公开/公告号	CN101526461
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N17/00 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N17/00 测试材料的耐气候，耐腐蚀，或耐光照性能	IPC分类号	G;0;1;N;1;7;/;0;0;;;G;0;1;N;2;1;/;8;8;;;G;0;1;N;2;1;/;4;9查看分类表>
申请人	中国科学院上海光学精密机械研究所	申请人地址	上海市800-211邮政信箱变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所	当前权利人	中国科学院上海光学精密机械研究所
发明人	张东;贺洪波;赵元安;夏燏
代理机构	上海新天专利代理有限公司	代理人	张泽纯

摘要

一种光学薄膜抗重复频率激光损伤特性的评价方法，该方法是用具有一定能量密度的一串序列激光脉冲辐照待测薄膜样品的不同测试点，确定并记录每个测试点的损伤状态，计算出该能量密度下的弱损伤几率；多次改变激光的能量密度辐照待测薄膜样品的不同测试点，确定并记录各测试点的损伤状态，分别计算每个能量密度下的弱损伤几率；以能量密度和弱损伤几率分别为横坐标和纵坐标制作弱损伤几率随激光能量密度的变化曲线，用该几率曲线的损伤几率峰值所对应的能量密度来评价该光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性。该能量密度越大，光学薄膜抗重复频率激光损伤的特性就越好。本发明使评价光学薄膜产品抗重复频率激光损伤特性的方法更加简单和实用。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供