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激光离子源

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310063330.0
  • IPC分类号:H01J27/24;H01J27/02
  • 申请日期:
    2013-02-28
  • 申请人:
    株式会社东芝
著录项信息
专利名称激光离子源
申请号CN201310063330.0申请日期2013-02-28
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-09-11公开/公告号CN103295861A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01J27/24IPC分类号H;0;1;J;2;7;/;2;4;;;H;0;1;J;2;7;/;0;2查看分类表>
申请人株式会社东芝申请人地址
日本东京都 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人株式会社东芝当前权利人株式会社东芝
发明人角谷晶子;林和夫;长内昭宏;佐藤洁和;吉行健;来栖努
代理机构永新专利商标代理有限公司代理人陈萍
摘要
本发明提供能不破坏真空条件地进行靶的补给的激光离子源。离子生成真空容器(110)被真空排气,被输送并配置通过激光的照射发生离子的靶(112)。阀(130)设置在离子生成真空容器(110)的侧面,在向离子生成真空容器110内输送靶(112)时打开,在输送时以外关闭。靶补给容器(120)通过阀(130)安装于离子生成真空容器(110),将靶(112)能移动地保持,能与离子生成真空容器(110)独立地真空排气。保持在靶补给容器(120)内的靶(112),在关闭了阀(130)的状态下将靶补给容器内真空排气之后,在打开了阀(130)的状态下被输送到离子生成真空容器(110)内。

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供