光学元件亚表面缺陷的检测装置及其方法

发明专利无效专利

申请号：
CN201010189970.2
IPC分类号：G01N21/88
申请日期：
2010-06-03
申请人：
成都精密光学工程研究中心

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著录项信息

专利名称	光学元件亚表面缺陷的检测装置及其方法
申请号	CN201010189970.2	申请日期	2010-06-03
法律状态	驳回	申报国家	中国
公开/公告日	2010-09-01	公开/公告号	CN101819163A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	G01N21/88 ? IPC结构图谱： G 物理 G0 仪器 G01 测量；测试 G01N （除免疫测定法以外包括酶或微生物的测量或试验入C12M，C12Q） G01N21/00 利用光学手段，即利用红外光、可见光；或紫外光来测试或分析材料（G01N 3/00至G01N 19/00优先） G01N21/84 专用于特殊应用的系统〔3〕 G01N21/88 测试瑕疵、缺陷或污点的存在〔3〕	IPC分类号	G;0;1;N;2;1;/;8;8查看分类表>
申请人	成都精密光学工程研究中心	申请人地址	四川省成都市高新区科园1路3号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	成都精密光学工程研究中心	当前权利人	成都精密光学工程研究中心
发明人	李亚国;雷向阳;郑楠;邓燕;谢瑞清;陈贤华;王健;许乔
代理机构	成都虹桥专利事务所	代理人	蒲敏

摘要

本发明提供一种测量误差小的光学元件亚表面缺陷的检测装置及其方法。光学元件亚表面缺陷的检测装置，包括显微镜、精密位移平台、与显微镜连接的图像数据处理单元，在所述图像数据处理单元上还连接有激光位移传感器，所述激光位移传感器用于测量精密位移平台在Z方向的移动量。本发明采用光学显微镜和激光位移传感器进行亚表面缺陷的测量，可同时获得亚表面缺陷深度和不同深度下的亚表面缺陷形貌，实现了对不同深度下亚表面缺陷形貌的观测和深度的精确测量，避免了传统检测重新定位所引入的误差，测量精度在微米量级，本发明不仅可用于光学玻璃的亚表面缺陷检测，同样也适用于陶瓷、硅、锗等工程材料的加工亚表面缺陷测量。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
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