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半导体组件之金属熔丝结构及其制造方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN02119721.0
  • IPC分类号:H01L21/31;H01L21/3205;H01L23/58;H01L23/62
  • 申请日期:
    2002-05-15
  • 申请人:
    台湾积体电路制造股份有限公司
著录项信息
专利名称半导体组件之金属熔丝结构及其制造方法
申请号CN02119721.0申请日期2002-05-15
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2003-12-03公开/公告号CN1459831
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/31
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IPC结构图谱:
IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;3;1;;;H;0;1;L;2;1;/;3;2;0;5;;;H;0;1;L;2;3;/;5;8;;;H;0;1;L;2;3;/;6;2查看分类表>
申请人台湾积体电路制造股份有限公司申请人地址
台湾省新竹科学工业园区 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人台湾积体电路制造股份有限公司当前权利人台湾积体电路制造股份有限公司
发明人郑心圃;吴集锡;侯上勇
代理机构北京三友知识产权代理有限公司代理人黄志华
摘要
一种半导体组件之金属熔丝结构及其制造方法,其是形成有易于熔断的弱连结部分而不需要增加额外的曝光、蚀刻及沉积等制程;根据本发明,可借由在熔丝蚀刻期间于介电层中蚀刻至少一沟渠以及溅镀一金属层,以在沟渠侧壁产生一或多个具低阶梯覆盖的弱连结部分的金属熔丝;根据本发明,还可借由在半导体集成电路的布局中,于熔丝中设计一较窄宽度的熔丝颈部以形成具弱连结部分的熔丝;相较于习用具均一宽度的金属熔丝,依据本发明所形成的具弱连结部分的金属熔丝是较易由激光束熔断而获致较佳的熔断良率。

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