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在半导体硅片上淀积与掺杂Pt的工艺方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201310142670.2
  • IPC分类号:H01L21/225
  • 申请日期:
    2013-04-24
  • 申请人:
    江阴新顺微电子有限公司
著录项信息
专利名称在半导体硅片上淀积与掺杂Pt的工艺方法
申请号CN201310142670.2申请日期2013-04-24
法律状态暂无申报国家中国
公开/公告日2013-07-31公开/公告号CN103227106A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/225IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;2;2;5查看分类表>
申请人江阴新顺微电子有限公司申请人地址
江苏省无锡市江阴市滨江开发区澄江东路 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人江苏新顺微电子股份有限公司当前权利人江苏新顺微电子股份有限公司
发明人朱瑞;吕伟;丁军;陈晓伦;冯东明;其他发明人请求不公开姓名
代理机构江阴市同盛专利事务所(普通合伙)代理人唐纫兰;曾丹
摘要
本发明涉及一种在半导体硅片上淀积与掺杂Pt的工艺方法,其特征在于所述方法包括以下步骤:步骤一:将氯铂酸与异丙醇按照1g:10-100ml比例进行混合,混合后在常温下静置大于24小时;步骤二:将静置后的混合溶液用毛笔涂覆在硅片表面上,硅片涂覆后在常温下放置大于2小时;步骤三:将上述硅片放入通有N2的高温扩散炉内进行900-1000℃高温处理大于15分钟。本发明改变了传统的物理方式淀积Pt工艺,将化学方式淀积Pt工艺应用到Pt掺杂工艺当中,不仅降低了生产成本,也减小了生产投入资金,利于大规模生产制造。

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