著录项信息
| 专利名称 | 一种直拉硅单晶炉 |
| 申请号 | CN202122568150.0 | 申请日期 | 2021-10-25 |
| 法律状态 | 授权 | 申报国家 | 中国 |
| 公开/公告日 | | 公开/公告号 | |
| 优先权 | 暂无 | 优先权号 | 暂无 |
| 主分类号 | C30B15/00 | IPC分类号 | C;3;0;B;1;5;/;0;0;;;C;3;0;B;2;9;/;0;6;;;C;3;0;B;1;5;/;0;2;;;C;3;0;B;1;5;/;2;0查看分类表>
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| 申请人 | 张利超 | 申请人地址 | 山东省潍坊市诸城市兴华东路33号1号楼2单元301号
变更
专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效 |
| 权利人 | 张利超 | 当前权利人 | 张利超 |
| 发明人 | 张利超 |
| 代理机构 | 暂无 | 代理人 | 暂无 |
摘要
本实用新型涉及单晶炉技术领域,且公开了一种直拉硅单晶炉,包括底座和连通管,所述底座的顶部固定有炉箱,所述炉箱的内部设置有坩埚,所述坩埚的下侧设置有升降电机,所述升降电机的一侧设置有保温套,所述坩埚的内壁开设有凹槽,所述凹槽的内壁固定有透明壳和液位传感器,所述炉箱上开设有炉箱凹槽,所述炉箱凹槽的内壁固定有多个等距离排列的制冷片,所述炉箱的一侧固定有第一支撑板。该直拉硅单晶炉,通过在底座上设置的炉箱,炉箱上设置的第一支撑板、控制面板和水箱,水箱上设置的出水管,炉箱上开设的炉箱凹槽,炉箱凹槽内部设置的制冷片,达到了对炉箱降温的效果。
1.一种直拉硅单晶炉,包括底座(1)和连通管(19),其特征在于,所述底座(1)的顶部固定有炉箱(2),所述炉箱(2)的内部设置有坩埚(3),所述坩埚(3)的下侧设置有升降电机(4),所述升降电机(4)的一侧设置有保温套(10),所述坩埚(3)的内壁开设有凹槽(7),所述凹槽(7)的内壁固定有透明壳(8)和液位传感器(9),所述炉箱(2)上开设有炉箱凹槽(14),所述炉箱凹槽(14)的内壁固定有多个等距离排列的制冷片(15),所述炉箱(2)的一侧固定有第一支撑板(16);
所述第一支撑板(16)的顶部固定有水箱(24),所述水箱(24)的一侧设置有出水管(17),所述炉箱(2)远离第一支撑板(16)的一侧固定有第二支撑板(21),所述第二支撑板(21)的顶部固定有原材料箱(22),所述原材料箱(22)的一侧设置有出料管(29),所述炉箱(2)上固定有控制面板(26)。
2.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述升降电机(4)的两侧均设置有固定柱(5),两个所述固定柱(5)以升降电机(4)为中心对称,所述固定柱(5)的底部与炉箱(2)的内底壁相固定,所述固定柱(5)上设置有升降柱(6),所述升降柱(6)的顶部与坩埚(3)的底部相固定,所述升降柱(6)的底部贯穿固定柱(5)的顶部延伸至固定柱(5)的内部。
3.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述炉箱(2)的内壁固定有导流块(12),所述导流块(12)位于坩埚(3)的上侧。
4.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述炉箱(2)上铰接有炉箱箱盖(13)。
5.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述水箱(24)远离出水管(17)的一侧设置有抽水管(18),所述炉箱凹槽(14)的内部设置有抽水管(18),所述抽水管(18)上开设有多个等距离排列的吸水口(20),多个所述吸水口(20)两两之间距离相等,所述连通管(19)的一端贯穿炉箱(2)的一侧与抽水管(18)的一端固定连通,所述连通管(19)的另一端与水箱(24)的一侧壁固定连通,所述保温套(10)上固定有多个等距离排列的电加热灯(11),多个所述电加热灯(11)两两之间距离相等。
6.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述控制面板(26)和液位传感器(9)的输出端均电连接有控制器(27),所述控制器(27)的输出端均与电加热灯(11)、升降电机(4)和制冷片(15)的输出端电连接,所述控制器(27)的输入端电连接有蓄电池(28)。
7.根据权利要求1所述的一种直拉硅单晶炉,其特征在于,所述升降电机(4)的底部与炉箱(2)的内底壁相固定,所述保温套(10)的外壁与炉箱(2)的内壁相固定,多个所述制冷片(15)两两之间距离相等,所述出水管(17)的一端与水箱(24)的一侧固定连通,所述透明壳(8)和液位传感器(9)之间留有间隔,所述出水管(17)的另一端贯穿炉箱(2)的一侧延伸至炉箱凹槽(14)的内部,所述出料管(29)的一端与原材料箱(22)的一侧固定连通,所述出料管(29)的另一端贯穿炉箱(2)的一侧延伸至坩埚(3)的上方。
一种直拉硅单晶炉\n技术领域\n[0001] 本实用新型涉及单晶炉技术领域,具体为一种直拉硅单晶炉。\n背景技术\n[0002] 生产单晶硅棒时,需要使用加热器将坩埚内的多晶硅料加热至熔化,然后再采用直拉法拉制单晶硅棒,在此过程中,需要使用保温材料包裹在加热器外围,以防止热量散失,降低加热器功耗。\n[0003] 目前市场上的一些单晶炉:\n[0004] (1)在使用过程中,由于使用时原材料不断损耗的原因,现有的单晶炉不便于添加原材料;\n[0005] (2)在使用过程中,由于炉子使用结束后需要凉置的原因,现有的单晶炉无法加快降温效率。\n[0006] 所以我们提出了一种直拉硅单晶炉,以便于解决上述中提出的问题。\n实用新型内容\n[0007] (一)解决的技术问题\n[0008] 针对上述背景技术中现有技术的不足,本实用新型的目的在于提供一种直拉硅单晶炉,以解决上述背景技术中提出的目前市场上的一些直拉硅单晶炉,存在不便于添加原材料和无法加快降温效率的问题。\n[0009] (二)技术方案\n[0010] 为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:\n[0011] 一种直拉硅单晶炉,包括底座和连通管,所述底座的顶部固定有炉箱,所述炉箱的内部设置有坩埚,所述坩埚的下侧设置有升降电机,所述升降电机的一侧设置有保温套,所述坩埚的内壁开设有凹槽,所述凹槽的内壁固定有透明壳和液位传感器,所述炉箱上开设有炉箱凹槽,所述炉箱凹槽的内壁固定有多个等距离排列的制冷片,所述炉箱的一侧固定有第一支撑板;\n[0012] 所述第一支撑板的顶部固定有水箱,所述水箱的一侧设置有出水管,所述炉箱远离第一支撑板的一侧固定有第二支撑板,所述第二支撑板的顶部固定有原材料箱,所述原材料箱的一侧设置有出料管,所述炉箱上固定有控制面板。\n[0013] 优选的,所述升降电机的两侧均设置有固定柱,两个所述固定柱以升降电机为中心对称,所述固定柱的底部与炉箱的内底壁相固定,所述固定柱上设置有升降柱,所述升降柱的顶部与坩埚的底部相固定,所述升降柱的底部贯穿固定柱的顶部延伸至固定柱的内部。\n[0014] 优选的,所述炉箱的内壁固定有导流块,所述导流块位于坩埚的上侧。\n[0015] 优选的,所述炉箱上铰接有炉箱箱盖。\n[0016] 进一步的,所述水箱远离出水管的一侧设置有抽水管,所述炉箱凹槽的内部设置有抽水管,所述抽水管上开设有多个等距离排列的吸水口,多个所述吸水口两两之间距离相等,所述连通管的一端贯穿炉箱的一侧与抽水管的一端固定连通,所述连通管的另一端与水箱的一侧壁固定连通,所述保温套上固定有多个等距离排列的电加热灯,多个所述电加热灯两两之间距离相等。\n[0017] 进一步的,所述控制面板和液位传感器的输出端均电连接有控制器,所述控制器的输出端均与电加热灯、升降电机和制冷片的输出端电连接,所述控制器的输入端电连接有蓄电池。\n[0018] 进一步的,所述升降电机的底部与炉箱的内底壁相固定,所述保温套的外壁与炉箱的内壁相固定,多个所述制冷片两两之间距离相等,所述出水管的一端与水箱的一侧固定连通,所述透明壳和液位传感器之间留有间隔,所述出水管的另一端贯穿炉箱的一侧延伸至炉箱凹槽的内部,所述出料管的一端与原材料箱的一侧固定连通,所述出料管的另一端贯穿炉箱的一侧延伸至坩埚的上方。\n[0019] (三)有益效果\n[0020] 与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:该直拉硅单晶炉:\n[0021] (1)通过在底座上设置的炉箱,炉箱上设置的第一支撑板、控制面板和水箱,水箱上设置的出水管,炉箱上开设的炉箱凹槽,炉箱凹槽内部设置的制冷片,达到了对炉箱降温的效果。\n[0022] (2)通过在炉箱上设置的第二支撑板和原材料箱,炉箱内部设置的坩埚,坩埚上开设的凹槽,凹槽内部设置的透明壳和液位传感器,原材料箱上设置的出料管,达到了自动补给材料的效果。\n附图说明\n[0023] 图1为本实用新型直拉硅单晶炉的结构示意图;\n[0024] 图2为本实用新型直拉硅单晶炉的截面结构示意图;\n[0025] 图3为本实用新型直拉硅单晶炉的工作原理结构示意图。\n[0026] 图中:底座1,炉箱2,坩埚3,升降电机4,固定柱5,升降柱6,凹槽 7,透明壳8,液位传感器9,保温套10,电加热灯11,导流块12,炉箱箱盖 13,炉箱凹槽14,制冷片15,第一支撑板16,出水管17,抽水管18,连通管19,吸水口20,第二支撑板21,原材料箱22,水箱24,控制面板26,控制器27,蓄电池28,出料管29。\n具体实施方式\n[0027] 下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。\n[0028] 请参阅图1‑3所示,本实用新型提供一种直拉硅单晶炉;包括底座1和连通管19,底座1的顶部固定有炉箱2,炉箱2的内部设置有坩埚3,坩埚3 的下侧设置有升降电机4,升降电机4的一侧设置有保温套10,坩埚3的内壁开设有凹槽7,凹槽7的内壁固定有透明壳8和液位传感器9,炉箱2上开设有炉箱凹槽14,炉箱凹槽14的内壁固定有多个等距离排列的制冷片15,炉箱2的一侧固定有第一支撑板16;\n[0029] 第一支撑板16的顶部固定有水箱24,水箱24的一侧设置有出水管17,炉箱2远离第一支撑板16的一侧固定有第二支撑板21,第二支撑板21的顶部固定有原材料箱22,原材料箱22的一侧设置有出料管29,炉箱2上固定有控制面板26;\n[0030] 作为本实用新型的一种优选技术方案:升降电机4的两侧均设置有固定柱5,两个固定柱5以升降电机4为中心对称,固定柱5的底部与炉箱2的内底壁相固定,固定柱5上设置有升降柱6,升降柱6的顶部与坩埚3的底部相固定,升降柱6的底部贯穿固定柱5的顶部延伸至固定柱5的内部,通过升降电机4、升降柱6和固定柱5的配合,达到了调节坩埚3使用高度的作用;\n[0031] 作为本实用新型的一种优选技术方案:炉箱2的内壁固定有导流块12,导流块12位于坩埚3的上侧;\n[0032] 作为本实用新型的一种优选技术方案:炉箱2上铰接有炉箱箱盖13;\n[0033] 作为本实用新型的一种优选技术方案水箱24远离出水管17的一侧设置有抽水管\n18,炉箱凹槽14的内部设置有抽水管18,抽水管18上开设有多个等距离排列的吸水口20,多个吸水口20两两之间距离相等,连通管19的一端贯穿炉箱2的一侧与抽水管18的一端固定连通,连通管19的另一端与水箱24的一侧壁固定连通,保温套10上固定有多个等距离排列的电加热灯11,多个电加热灯11两两之间距离相等,通过抽水管18、吸水口20和连通管19 的配合,达到了抽取炉箱凹槽14内部的水进行循环利用的作用;\n[0034] 作为本实用新型的一种优选技术方案:控制面板26和液位传感器9的输出端均电连接有控制器27,控制器27的输出端均与电加热灯11、升降电机4 和制冷片15的输出端电连接,控制器27的输入端电连接有蓄电池28;\n[0035] 作为本实用新型的一种优选技术方案:升降电机4的底部与炉箱2的内底壁相固定,保温套10的外壁与炉箱2的内壁相固定,多个制冷片15两两之间距离相等,出水管17的一端与水箱24的一侧固定连通,透明壳8和液位传感器9之间留有间隔,出水管17的另一端贯穿炉箱2的一侧延伸至炉箱凹槽14的内部,出料管29的一端与原材料箱22的一侧固定连通,出料管29 的另一端贯穿炉箱2的一侧延伸至坩埚3的上方。\n[0036] 本实施例的工作原理:在使用该直拉硅单晶炉时,如图1‑3所示,水箱 24和原材料箱22上均铰接有箱盖便于打开,将需要制作硅的材料倒进原材料箱22和坩埚3的内部,水源倒进水箱24的内部,出料管29、出水管17和连通管19上均安装有阀门,炉箱箱盖13上开设有孔洞,便于取出单晶硅,开启电加热灯11对炉箱2内部升温,通过控制面板26控制升降电机4调节坩埚3的使用高度,当凹槽7内部的液位传感器9扫描不到坩埚3内部的材料液时,意味着坩埚3内部的材料液不足,传输到控制器27,控制器27开启出料管29上的阀门,将原材料箱22内部的材料液通过出料管29流进坩埚3的内部,液位传感器9扫描到材料液时,控制器\n27关闭出料管29上的阀门,当单晶硅制作出并取出,不使用炉箱2,通过控制器27开启制冷片15和出水管17上的阀门,水箱24内部的水源通过出水管17流进炉箱凹槽14内部,水源流到一定程度后关闭出水管17上的阀门,对炉箱2进行降温,降温结束后,通过控制器27开启连通管19上的阀门,抽水管18上的吸水口20对炉箱凹槽14内部的水抽取到水箱24的内部进行循环利用,以上便是整个装置的工作过程,且本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域专业技术人员公知的现有技术。\n[0037] 尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,需要说明的是,在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接;也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义;对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
引用专利(该专利引用了哪些专利)
序号 | 公开(公告)号 | 公开(公告)日 | 申请日 | 专利名称 | 申请人 | 该专利没有引用任何外部专利数据! |
被引用专利(该专利被哪些专利引用)
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