加载中...
首页专利查询专利详情

*来源于国家知识产权局数据,仅供参考,实际以国家知识产权局展示为准

一种高精度调焦调平测量系统

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201510762399.1
  • IPC分类号:G03F7/20;G03F9/00
  • 申请日期:
    2015-11-10
  • 申请人:
    中国科学院光电技术研究所
著录项信息
专利名称一种高精度调焦调平测量系统
申请号CN201510762399.1申请日期2015-11-10
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2016-01-13公开/公告号CN105242501A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;G;0;3;F;9;/;0;0查看分类表>
申请人中国科学院光电技术研究所申请人地址
四川省成都市双流350信箱 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人中国科学院光电技术研究所当前权利人中国科学院光电技术研究所
发明人李艳丽;严伟;冯金花;王建
代理机构暂无代理人暂无
摘要
本发明提出了一种高精度调焦调平测量系统,该测量系统采用四通道检测的方式,通过测得基片上的四点高度,确定当前曝光场内垂直方向的离焦量和水平方向的倾斜度,从而实现基片的调焦调平。基片高度的检测是基于光强调制的双光路叠栅条纹检焦方法,该方法通过对叠栅条纹的光强进行调制,同时引入π/2相位差,利用两只光路探测到的信号比求得离焦量。本发明有效的消除了传统应用光强检焦时由于光源或反射率波动引起的光强变化而导致的误差。该调焦调平装置易于实现,精度可达纳米级。

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供