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0729用于净化和过滤流体的过滤器，即用于化工工艺和生产机器、半导体生产机器和微电子生产设备的过滤器；

0744用于净化和过滤流体的过滤器，即用于化工工艺和生产机器、半导体生产机器和微电子生产设备的过滤器；

0753用于净化和过滤流体的过滤器，即用于化工工艺和生产机器、半导体生产机器和微电子生产设备的过滤器；

1110液体净化器，以薄膜形式存在，用于过滤和净化半导体设备中的液体、半导体设备用液体净化器；

0910用于净化和过滤液体的过滤器，即实验室过滤器、用于净化和过滤液体的过滤器，即实验室膜过滤器、用于净化和过滤液体的过滤器，即实验室用液体过滤和净化子系统；

1110用于净化和过滤流体的过滤器，即用于水、化学、半导体和微电子行业的水过滤装置、用于净化和过滤流体的过滤器，即用于化工工艺和生产机器、半导体生产机器和微电子生产设备的非水液体过滤器；

4207法律服务；

4209科学和技术服务以及与之相关的研究与设计、工业分析与研究服务；

4210科学和技术服务以及与之相关的研究与设计、工业分析与研究服务；

4211科学和技术服务以及与之相关的研究与设计、工业分析与研究服务；

4212科学和技术服务以及与之相关的研究与设计、工业分析与研究服务；

4214科学和技术服务以及与之相关的研究与设计、工业分析与研究服务；

2002用于封装硅晶片的聚合物容器、商用塑料桶、琵琶桶和容器、用于储存和分配化学品的塑料桶、用于封装存储盘基片和硅晶片的聚合物容器、主要由塑料制的载体、容器和收纳箱及其零部件，上述用于制造、存储、加工、运输和保护计算机硬盘驱动器、基板、硅晶片、半导体晶片、电子元件、光罩和存储盘、用于液体化学品的塑料容器和与之配合使用的分配器，上述均为商用、储存和分配化学品桶用塑料的内衬、化学流体用非金属容器，以及可连接到上述容器、从这些容器中分配化学液体的流体分配器，上述均为工业用；

2003手动塑料阀、用于化学取样和过程监测的塑料旋塞阀（非机器部件）、塑料弹簧止回阀、以及塑料气动阀、非金属夹具，其用于将塑料配件、管道支架和用于塑料管件和管道的塑料阀固定在一起、用于半导体加工操作和制药操作的塑料阀，用于安装塑料阀的塑料歧管、塑料阀门（非机器部件）；

2014塑料制紧固件，即螺丝、螺母和螺栓；

2203用于容纳、转移和/或混合医用、药用、生物制药或生物加工材料的塑料和合成袋（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）；

4001为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，即涂覆用作净化器或过滤器的碳基聚合物涂层和陶瓷、无机和金属非聚合物涂层，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性、为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，用作净化器或过滤器的薄膜和金属，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性、晶片和涂层（作为电气/电子基材组件销售）的定制制造；

4002为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，用作净化器或过滤器的薄膜和金属，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性、为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，即涂覆用作净化器或过滤器的碳基聚合物涂层和陶瓷、无机和金属非聚合物涂层，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性；

4015为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，用作净化器或过滤器的薄膜和金属，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性、为零部件或基材提供额外的化学、电学和/或保护特性的聚合物和非聚合物涂层服务，即涂覆用作净化器或过滤器的碳基聚合物涂层和陶瓷、无机和金属非聚合物涂层，上述用于航空航天和国防工业的高温应用、用于在航空航天工业中产生高度磨光面效应、用于半导体、平板和微电子产品工业中污染物最小化或提供所需的导电性；

4209通过提供工程设计和产品信息的故障排除性质的技术咨询和支持服务，上述服务属于先进材料和化学前体及其产品（即薄膜材料、有机金属源试剂化合物）、化学气相沉积设备以及用于化学气相淀积、半导体和化学试剂的化学试剂输送系统领域，以及用于开发集成电路软件的计算机硬件和软件、集成电路、集成电路核心架构、电子系统和子系统、编码集成电路卡和智能卡用于材料无损分析的设备和软件、用于监测流体和流体流以确定其特定部件的存在、特性和浓度的设备和软体、分析监测和过程控制设备以及压电化学分析设备领域（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、半导体晶片和电子元件载体和容器的使用、清洁和回收领域的技术咨询（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、半导体、微电子和平板显示器领域的工程和技术咨询（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、以及污染识别、测量和控制领域的制造和工艺改进（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、半导体制造设施中掩模版载体工作环境领域的科学技术咨询和研究服务，即污染监测和控制、工艺反应和工艺改进（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、半导体晶片和电子元件运输、加工、储存和包装领域的技术咨询（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）；

4220通过提供工程设计和产品信息的故障排除性质的技术咨询和支持服务，上述服务属于先进材料和化学前体及其产品（即薄膜材料、有机金属源试剂化合物）、化学气相沉积设备以及用于化学气相淀积、半导体和化学试剂的化学试剂输送系统领域，以及用于开发集成电路软件的计算机硬件和软件、集成电路、集成电路核心架构、电子系统和子系统、编码集成电路卡和智能卡用于材料无损分析的设备和软件、用于监测流体和流体流以确定其特定部件的存在、特性和浓度的设备和软体、分析监测和过程控制设备以及压电化学分析设备领域（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）；

0709用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、食品和饮料加工机用过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料加工用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料行业机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化过滤器；

0710用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料加工用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料行业机器的过滤器、食品和饮料加工机用过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化过滤器；

0725用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于从制药、生物制药和化学加工和制造使用的液体中去除微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于制药、生物制药、化学加工和制造用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于医疗、制药和生命科学行业用机器的过滤器、用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤芯；

0729用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于从制药、生物制药和化学加工和制造使用的液体中去除微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于医疗、制药和生命科学行业用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于制药、生物制药、化学加工和制造用机器的过滤器、用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤芯；

0750用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于从制药、生物制药和化学加工和制造使用的液体中去除微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化子系统、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于医疗、制药和生命科学行业用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于制药、生物制药、化学加工和制造用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除流体中污染物、微粒和杂质的机器的过滤器、用于净化和过滤液体的过滤器，即用作机器部件的膜过滤器、食品和饮料加工机用过滤器和滤筒、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料加工用机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于食品和饮料行业机器的过滤器、用于净化或过滤流体的过滤器，即用于去除食品和饮料加工使用的液体中的微粒、污染物和杂质的机器用液体过滤和净化过滤器、用于制药、生物制药和化学加工和制造用机器的过滤器和滤芯；

0613装有固体吸附材料的气体供应金属容器，其用于储存吸附气体、气体从其中解除吸附以从容器中分配；

0601用于携带流体（包括气体、液体和浆料）的塑料管件和管道的金属支架和吊架；

0602以金属为主或仅由金属制的夹具，上述用于将用于塑料管件和管道的塑料配件、管件支架和塑料阀门固定在一起、用于输送化学品的化学品输送系统用金属歧管、化学品输送用金属管道和管子、用于输送化学品的手动操作的金属歧管；

0606以金属为主或仅由金属制的夹具，上述用于将用于塑料管件和管道的塑料配件、管件支架和塑料阀门固定在一起；

0613用于容纳金属容器、阀门、歧管和金属管道的金属化学品输送柜、用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的负压气体储存和分配系统，其由装吸附剂与所吸附的制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的空的金属气体供应容器组成、工业气体用负压储存和分配系统，其由装有吸附剂与所吸附的工业气体的金属供气容器组成、用于装有制造半导体、太阳能集热板以及平板显示器用气体的金属气体容器、主要由金属制的半导体晶片制造、储存和运输用载体、用于存储气体和按需分配这种气体的气体供应设备，即装有加压或液体形式的气体的金属容器，上述带有流量控制阀和调节器、用于按需分配这种气体、用于储存和输送化学品、带有入口和出口阀的金属容器、用于存储吸附气体的吸附材料并且气体可以从容器中解吸出来进行分配的装有吸附材料的金属气体供应容器；

0101用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的负压气体储存和分配系统，其由吸附剂与所吸附的制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体组成，不包括天然气或天然气脱水或净化机器（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、在装有吸附材料的气体供应容器中提供的气体，其用于半导体制造和其它工业工艺、工业和科学用化学品、用于制造半导体和微电子产品的吸附气体，其作为在装有吸附材料的气体供应容器中提供、用于制造半导体、平板显示器、CD盘和存储介质的加工气体、用于离子注入和化学气相沉积的负压气体、与气体供应设备一起出售的化学气体，上述设备用于储存气体和按需分配此类气体，即在金属容器中出售的化学气体，容器中装有加压或液体形式的气体，所述容器内装有压力调节器和用于按需分配这种气体的流量控制阀，上述用于半导体制造、用于制造半导体、微电子产品、太阳能电池板和平板显示器的气体，上述在气体供应容器中提供并用于此类制造中按需分配此类气体、负压气源，即用于制造半导体、微电子产品、太阳能电池板和平板显示器的吸附在气体供应容器内吸附剂上的气体、负压气体，即用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器的气体，不包括天然气；

0102工业和科学用化学品；

0103工业和科学用化学品；

0104半导体制造和加工中使用的化学溶液，即光致抗蚀剂剥离剂、苯骈三唑（bta）和l—脯氨酸溶液、用于抛光半导体的分配在水中的气相二氧化硅、用于制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体的负压气体储存和分配系统，其由吸附剂与所吸附的制造半导体、太阳能电池板以及平板显示器用气体组成，不包括天然气或天然气脱水或净化机器（根据《实施细则》第13条2款b项的规定，国际局认为该术语过于模糊）、用于从微电子产品（例如晶片和微电子器件）中去除微电子制造材料的化学组合物，这些产品在去除此类材料后被回收、工业和科学用化学品、化学源材料，即用于制造半导体、平板显示器和太阳能电池板的基板上薄膜沉积的化学组合物、用于制造半导体的化学试剂输送系统的化学品、气相沉积金属化用化学品、复合材料，即用于进一步制造模制品、由聚合物和碳纳米管制复合物、用于半导体抛光的金属氧化物水分散体、用于制造半导体、集成电路、平板显示器、太阳能电池板和光伏产品的化学品、化学添加剂，即用于制造电子元件和基板、光学元件、金属、机械、计算机部件以及磁性数据存储磁盘和磁头的研磨分散体、用于半导体制造、太阳能电池板制造和平板显示器制造的化学组合物、化学品，即含聚合物的减阻剂和流动性改进剂，其用以增加通过管道的碳氢化合物流量、工业和科学用化学制剂，即半导体和微电子工业用化学制剂、化学产品，即用于气相沉积工艺的化学组合物、化学源材料，即用于制造半导体的半导体晶片上薄膜沉积的化学组合物、用于半导体应用中有害气体处理的化学品、用于半导体、集成电路和相关产品制造的去除光致抗蚀剂和蚀刻后残留物的化学组合物、电子元件制造用高纯度化学组合物、用于光电子和光子产品行业半导体制造和加工的化学机械抛光（cmp）浆料和化学机械平坦化（cmp）浆料、一般工业用吸附碳、半导体工业中用于制造先进集成电路器件的化学浆料；

0106工业和科学用化学品、化学组合物，即用于电子产品和半导体制造业的半导体制造用试剂、化学组合物，即半导体制造用化学试剂、化学组合物，即试剂，即外延薄膜材料、有机金属源试剂化合物和络合物、以及离子注入材料、上述均用于电子产品和半导体制造业；

0111工业和科学用化学品；

0112工业和科学用化学品；

0113工业和科学用化学品；

0114工业和科学用化学品；

0115工业和科学用化学品；

0302光电子和光子行业中用于集成电路（ic）加工的化学清洗溶液、半导体制造和加工中使用的镀铜后化学机械平坦化（cmp）清洗液、半导体制造和加工用灰化后清洗液、电子工业用化学清洁剂、研磨制剂，即化学清洁剂，即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂：用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工；

0303下述用途的化学浆料：在半导体、电子、硬磁盘和磁头行业中用于抛光半导体、硅片、玻璃、金属、塑料、机械、电子元件和基板、光学元件、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头、研磨制剂，即化学清洁剂，即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂：用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工；

0304工业用研磨料，即用于研磨和抛光半导体、硅片、玻璃和金属表面的研磨膏、研磨制剂，即化学清洁剂，即下述用途的研磨分散浆料和清洁抛光制剂：用于电子元件和基板、光学元件、玻璃、金属、塑料、机械、计算机部件、磁性数据存储磁盘和磁头的精加工；