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4209加工技术试验和测试,即:用于产生切口、平面、倒角的技术试验和测试、用于机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的新耗材的研究和开发、用于表面处理操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作的新耗材的研究和开发、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的新耗材的研究和开发、用于进行机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的技术援助、支持或咨询服务、用于表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析的技术援助、支持或咨询服务、用于结构表征,即:形态学和晶体学的技术援助、支持或咨询服务、用于进行表面处理操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作的技术援助、支持和咨询服务、用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的技术试验和测试、表面处理技术试验和测试,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记技术试验和测试、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于芯片回收的材料领域的其他表面处理的技术援助、支持和咨询服务、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合的半导体或压电或氧化物材料领域、新产品的研究和开发;
4214用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的技术试验和测试、加工技术试验和测试,即:用于产生切口、平面、倒角的技术试验和测试、表面处理技术试验和测试,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记技术试验和测试、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合的半导体或压电或氧化物材料领域;
4209加工技术试验和测试,即:用于产生切口、平面、倒角的技术试验和测试、用于机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的新耗材的研究和开发、用于表面处理操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作的新耗材的研究和开发、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的新耗材的研究和开发、用于进行机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的技术援助、支持或咨询服务、用于表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析的技术援助、支持或咨询服务、用于结构表征,即:形态学和晶体学的技术援助、支持或咨询服务、用于进行表面处理操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作的技术援助、支持和咨询服务、用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的技术试验和测试、表面处理技术试验和测试,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记技术试验和测试、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于芯片回收的材料领域的其他表面处理的技术援助、支持和咨询服务、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合的半导体或压电或氧化物材料领域、新产品的研究和开发;
4214用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的材料领域的其他表面处理的技术试验和测试、加工技术试验和测试,即:用于产生切口、平面、倒角的技术试验和测试、表面处理技术试验和测试,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记技术试验和测试、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合的半导体或压电或氧化物材料领域;
4001与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
4002与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析方法、与机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的处理有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的其他表面处理、结构表征,即:形态学和晶体学方法、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
4015与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的其他表面处理、结构表征,即:形态学和晶体学方法、表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析方法、与机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的处理有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
4001与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
4002与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析方法、与机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的处理有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的其他表面处理、结构表征,即:形态学和晶体学方法、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
4015与表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、用于获得电子或光电子或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的其他表面处理、结构表征,即:形态学和晶体学方法、表面特征,即:形貌、粗糙度和化学分析方法、与机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的处理有关的半导体或压电或氧化物材料的晶片处理、所有这些服务均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域;
0901计算机存储器、计算机、已录制的计算机程序、已录制的开发系统程序(计算机用)、处理器(中央处理装置)、计算机周边设备、计算机打印装置、文字处理设备、磁性数据载体、数据处理设备;
0908用于录制、传输、重放声音的器具;
0913集成印刷电路、远程线路连接用的电气设备;
0914远程线路连接用的电气设备;
0901计算机存储器、计算机、已录制的计算机程序、已录制的开发系统程序(计算机用)、处理器(中央处理装置)、计算机周边设备、计算机打印装置、文字处理设备、磁性数据载体、数据处理设备;
0908用于录制、传输、重放声音的器具;
0913集成印刷电路、远程线路连接用的电气设备;
0914远程线路连接用的电气设备;
1101照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1103照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1104照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1105照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1106照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1107供水设备和卫生装置、照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1108照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1109照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置、供水设备和卫生装置;
1110照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置、陶瓷隔膜(水处理和/或净化工业装置用的部件)、工业装置用的过滤设备、工业用准备层析法用具及仪器、工业用层析法用具及仪器、过滤器和隔膜(水处理和/或净化工业装置用的部件)、工业装置过滤,尤其是超过滤、微过滤用的机器、设备和装置、过滤器及过滤和净化设备、工业用多柱连续层析法用具及仪器、水处理、净化,水过滤用的器具、设备和装置,尤其是用隔膜的;
1111照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1112照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1101照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1103照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1104照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1105照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1106照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1107供水设备和卫生装置、照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1108照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1109照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置、供水设备和卫生装置;
1110照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置、陶瓷隔膜(水处理和/或净化工业装置用的部件)、工业装置用的过滤设备、工业用准备层析法用具及仪器、工业用层析法用具及仪器、过滤器和隔膜(水处理和/或净化工业装置用的部件)、工业装置过滤,尤其是超过滤、微过滤用的机器、设备和装置、过滤器及过滤和净化设备、工业用多柱连续层析法用具及仪器、水处理、净化,水过滤用的器具、设备和装置,尤其是用隔膜的;
1111照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1112照明、加温、蒸汽、烹调、冷藏、干燥、通风、供水设备及卫生装置;
1107工业用层析设备和装置、用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1110用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、水过滤设备、水净化设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1107工业用层析设备和装置、用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1110用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、水过滤设备、水净化设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1107工业用层析设备和装置、用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1110用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、水净化设备、水过滤设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1107工业用层析设备和装置、用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
1110用于处理液体,特别是离子交换剂的设备、水净化设备、水过滤设备、用于处理水溶液或悬浮液的装置;
0901分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域计算机软件;
0910离子交换剂、电渗析、过滤设备和装置,所有上述设备均为实验室设备和装置、实验室层析设备和装置、实验室用离心机、用于实施酶或发酵过程的实验室设备和装置;
0913分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0914分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0901分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域计算机软件;
0910离子交换剂、电渗析、过滤设备和装置,所有上述设备均为实验室设备和装置、实验室层析设备和装置、实验室用离心机、用于实施酶或发酵过程的实验室设备和装置;
0913分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0914分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0102化学用酵素、工业用酶制剂;
0104离子交换产品和树脂、过滤材料,如超滤、微滤、纳滤、反渗透、电渗析膜、层析用化学品、用于液体工业处理的化学品;
0108离子交换产品和树脂;
0102化学用酵素、工业用酶制剂;
0104离子交换产品和树脂、过滤材料,如超滤、微滤、纳滤、反渗透、电渗析膜、层析用化学品、用于液体工业处理的化学品;
0108离子交换产品和树脂;
0104以下工业,即制药、化妆品、电子、食品、染料、纺织品、油漆、玻璃器皿、核工业、冶金、塑料工业用的化学品、催化剂、添加剂、合成中间体、活性分子、天然纯净香精汁、树脂清洁和消毒制品,特别是离子交换剂、化学品、液体,尤其是层析法和结晶法,特别是准备层析法用的洗提液、层析法分离或馏分工艺用的化学品、药品、兽药、卫生用品和化妆品活性成分合成用的中间产品、离子交换剂、水处理、水净化和工业污水处理用的化学品、生物制剂、细菌制剂、过滤材料、过滤用陶瓷材料、逆向渗透用陶瓷材料、液体工业处理用的化学品、有机和/或含矿物化学品,特别是过滤构件、过滤器和过滤或逆向渗透隔膜制造用的陶瓷材料;
0104以下工业,即制药、化妆品、电子、食品、染料、纺织品、油漆、玻璃器皿、核工业、冶金、塑料工业用的化学品、催化剂、添加剂、合成中间体、活性分子、天然纯净香精汁、树脂清洁和消毒制品,特别是离子交换剂、化学品、液体,尤其是层析法和结晶法,特别是准备层析法用的洗提液、层析法分离或馏分工艺用的化学品、药品、兽药、卫生用品和化妆品活性成分合成用的中间产品、离子交换剂、水处理、水净化和工业污水处理用的化学品、生物制剂、细菌制剂、过滤材料、过滤用陶瓷材料、逆向渗透用陶瓷材料、液体工业处理用的化学品、有机和/或含矿物化学品,特别是过滤构件、过滤器和过滤或逆向渗透隔膜制造用的陶瓷材料;
4209工程学、层析分析、电渗析、膜过滤实验室服务、层析、电渗析、膜过滤、离子交换、酶和发酵流程领域研究服务、工厂和机器检查、技术审计、层析、电渗析、膜过滤、离子交换、酶和发酵流程领域科学和技术服务、替他人设计液体、分子或原材料处理、加工、净化、浓缩流程、产品和材料测试和评估服务;
4211化学服务;
4214产品和材料测试和评估服务;
4209工程学、层析分析、电渗析、膜过滤实验室服务、层析、电渗析、膜过滤、离子交换、酶和发酵流程领域研究服务、工厂和机器检查、技术审计、层析、电渗析、膜过滤、离子交换、酶和发酵流程领域科学和技术服务、替他人设计液体、分子或原材料处理、加工、净化、浓缩流程、产品和材料测试和评估服务;
4211化学服务;
4214产品和材料测试和评估服务;
0901分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域计算机软件;
0910实验室层析设备和装置、用于实施酶或发酵过程的实验室设备和装置、离子交换剂、电渗析、过滤设备和装置,所有上述设备均为实验室设备和装置、实验室用离心机;
0913分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0914分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0901分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域计算机软件;
0910实验室层析设备和装置、用于实施酶或发酵过程的实验室设备和装置、离子交换剂、电渗析、过滤设备和装置,所有上述设备均为实验室设备和装置、实验室用离心机;
0913分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0914分子生产、分子纯化、过程控制、过程分析计算、过程模拟、过程优化领域可编程控制器;
0102工业用酶制剂、化学用酵素;
0104过滤材料,如超滤、微滤、纳滤、反渗透、电渗析膜、层析用化学品、用于液体工业处理的化学品、离子交换产品和树脂;
0108离子交换产品和树脂;
0102工业用酶制剂、化学用酵素;
0104过滤材料,如超滤、微滤、纳滤、反渗透、电渗析膜、层析用化学品、用于液体工业处理的化学品、离子交换产品和树脂;
0108离子交换产品和树脂;
2401织物、针织织物、纺织制品;
2402纺织制品;
2405毛巾、手帕、餐巾;
2406毯子和床罩、床单;
2407窗帘、桌布;
2401织物、针织织物、纺织制品;
2402纺织制品;
2405毛巾、手帕、餐巾;
2406毯子和床罩、床单;
2407窗帘、桌布;
2507靴、鞋(运动鞋除外);
2512服装带(衣服);
2507靴、鞋(运动鞋除外);
2512服装带(衣服);
4209与水和空气质量检验有关的服务、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、技术审核、可行性研究、制药工程;
4210由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4211危险产品合成、有关层析法新产品的研究、设计和制造(设计)、各种化学品的研究,尤其是分离工艺产品和材料或设备的研究、中间产品合成,尤其是工业,特别是制药工业和农业用的有机中间产品的合成、替他人进行的化学合成、有关新产品的技术和科学研究和开发,尤其是食品和制药工艺用的、有关层析法分离或馏分设备的研究和制造、所有有关层析法的研究工作、所有有关结晶法和结晶化的研究工作、有关结晶法和结晶化新产品的研究、设计和制造(设计)、香料代用品和旋光性分子合成,尤其是替他人合成产品、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4212中间产品合成,尤其是工业,特别是制药工业和农业用的有机中间产品的合成、香料代用品和旋光性分子合成,尤其是替他人合成产品、替制药、农业和兽药客户进行的生物制品的合成、有关新产品的技术和科学研究和开发,尤其是食品和制药工艺用的、草药研究,特别是替他人进行的、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、草药公式准备,特别是替他人进行的;
4214由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、有关超过滤、纳米过滤和切面微过滤隔膜和载体的研究和开发;
4216由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、各种化学品的研究,尤其是分离工艺产品和材料或设备的研究、有关层析法工艺混合分裂设备的设计、有关结晶法工艺混合分裂设备的设计;
4217由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4220由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4209与水和空气质量检验有关的服务、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、技术审核、可行性研究、制药工程;
4210由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4211危险产品合成、有关层析法新产品的研究、设计和制造(设计)、各种化学品的研究,尤其是分离工艺产品和材料或设备的研究、中间产品合成,尤其是工业,特别是制药工业和农业用的有机中间产品的合成、替他人进行的化学合成、有关新产品的技术和科学研究和开发,尤其是食品和制药工艺用的、有关层析法分离或馏分设备的研究和制造、所有有关层析法的研究工作、所有有关结晶法和结晶化的研究工作、有关结晶法和结晶化新产品的研究、设计和制造(设计)、香料代用品和旋光性分子合成,尤其是替他人合成产品、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4212中间产品合成,尤其是工业,特别是制药工业和农业用的有机中间产品的合成、香料代用品和旋光性分子合成,尤其是替他人合成产品、替制药、农业和兽药客户进行的生物制品的合成、有关新产品的技术和科学研究和开发,尤其是食品和制药工艺用的、草药研究,特别是替他人进行的、由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、草药公式准备,特别是替他人进行的;
4214由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、有关超过滤、纳米过滤和切面微过滤隔膜和载体的研究和开发;
4216由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告、各种化学品的研究,尤其是分离工艺产品和材料或设备的研究、有关层析法工艺混合分裂设备的设计、有关结晶法工艺混合分裂设备的设计;
4217由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
4220由工程师提供的科学和技术咨询,上述工程师负责对水处理和净化、工业废水处理技术活动进行评估、估计、研究和报告;
0913用于获得电子或光电子或光子组件的材料领域的经过不同表面处理的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片、所有这些产品均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域的研磨、机械和化学机械抛光(CMP)操作以及其他其他表面处理、经过各种表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作以待外延或键合的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片、经过各种机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片;
0913用于获得电子或光电子或光子组件的材料领域的经过不同表面处理的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片、所有这些产品均涉及用于获得电子或光电或光子组件或外延层生长或分子键合或用于晶片回收的半导体或压电或氧化物材料领域的研磨、机械和化学机械抛光(CMP)操作以及其他其他表面处理、经过各种表面操作,即:研磨、磨削、机械和化学机械抛光(CMP)、清洁、激光标记操作以待外延或键合的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片、经过各种机加工操作,即:用于产生切口、平面、倒角的操作的半导体或压电或氧化物材料的单层或多层晶片;
0901用于管理层析法分离、净化或馏分工艺的软件、用于管理准备层析法分离、净化或馏分工艺的软件;
0910过滤或逆向渗透机器或设备用的部件、层析法实验室用的设备、层析法和结晶法用的蒸发器,干燥器,和贮藏装置、非医用分析设备、水质检验器具、设备和装置、工业装置用的过滤设备、酶或发酵工艺运行设备、机器和装置、逆向渗透用具及仪器、机器用的过滤或逆向渗透设备、陶瓷或碳制隔膜、合金隔膜、结晶法实验室用的设备、层析法用具及仪器、准备层析法用具及仪器;
0901用于管理层析法分离、净化或馏分工艺的软件、用于管理准备层析法分离、净化或馏分工艺的软件;
0910过滤或逆向渗透机器或设备用的部件、层析法实验室用的设备、层析法和结晶法用的蒸发器,干燥器,和贮藏装置、非医用分析设备、水质检验器具、设备和装置、工业装置用的过滤设备、酶或发酵工艺运行设备、机器和装置、逆向渗透用具及仪器、机器用的过滤或逆向渗透设备、陶瓷或碳制隔膜、合金隔膜、结晶法实验室用的设备、层析法用具及仪器、准备层析法用具及仪器;
4001为他人制造汽车售后零部件;
4001为他人制造汽车售后零部件;
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