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一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN201910378992.4
  • IPC分类号:G03F7/20;B82Y40/00
  • 申请日期:
    2019-05-08
  • 申请人:
    北京理工大学
著录项信息
专利名称一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法
申请号CN201910378992.4申请日期2019-05-08
法律状态驳回申报国家中国
公开/公告日2019-08-06公开/公告号CN110095950A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号G03F7/20IPC分类号G;0;3;F;7;/;2;0;;;B;8;2;Y;4;0;/;0;0查看分类表>
申请人北京理工大学申请人地址
北京市海淀区中关村南大街5号 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人北京理工大学当前权利人北京理工大学
发明人路翠翠;张红钰;肖致远;刘舟慧;王晨阳;钟锦锐
代理机构北京理工正阳知识产权代理事务所(普通合伙)代理人邬晓楠
摘要
本发明涉及一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,属于微纳加工领域。本发明公开了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,主要利用聚焦离子束刻蚀系统(FIB)完成对不同弯曲程度纳米梁的制备,涉及微纳加工领域。本发明通过FIB刻蚀样品、氢氟酸缓冲液腐蚀样品两个步骤制备出纳米梁,通过控制聚焦离子束的束流大小和扫描时间制备出不同弯曲程度的纳米梁。本发明提供了一种制备不同弯曲程度纳米梁的方法,制备方法简单易行、制备精度高,为腔光力学的研究提供了新型纳米平台,为光力纳米器件的研究奠定了基础。

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