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形成细微图案的方法

发明专利无效专利
  • 申请号:
    CN03147903.0
  • IPC分类号:H01L21/027;G03F7/00
  • 申请日期:
    2003-06-25
  • 申请人:
    东京应化工业株式会社
著录项信息
专利名称形成细微图案的方法
申请号CN03147903.0申请日期2003-06-25
法律状态权利终止申报国家中国
公开/公告日2004-01-21公开/公告号CN1469432
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L21/027IPC分类号H;0;1;L;2;1;/;0;2;7;;;G;0;3;F;7;/;0;0查看分类表>
申请人东京应化工业株式会社申请人地址
日本神奈川县 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人东京应化工业株式会社当前权利人东京应化工业株式会社
发明人菅田祥树;金子文武;立川俊和
代理机构北京市金杜律师事务所代理人杨宏军
摘要
本发明提供一种形成细微图案的方法,包括以下工序:在具有光刻胶图案的基板上涂敷用于图案细微化的涂膜形成剂的工序;除去附着在基板的端缘部和/或里面部的不需要的涂膜形成剂的工序;利用热处理使所述涂膜形成剂热收缩,利用该热收缩作用缩小光刻胶图案间的间隔的工序;和实质上完全除去所述涂膜形成剂的工序。利用本发明,可以很好地控制图案尺寸,同时可以得到外形良好和具有半导体器件所要求特性的细微图案,还可以防止导致器件污染的颗粒的发生。

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