一种抛光机的水冷下抛光盘结构

发明专利无效专利

申请号：
CN201610566982.X
IPC分类号：B24B55/02;B24B41/047
申请日期：
2016-07-19
申请人：
苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	一种抛光机的水冷下抛光盘结构
申请号	CN201610566982.X	申请日期	2016-07-19
法律状态	驳回	申报国家	暂无
公开/公告日	2016-11-09	公开/公告号	CN106078521A
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	B24B55/02 ? IPC结构图谱： B 作业；运输 B2 成型 B24 磨削；抛光 B24B 用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F 3/00）；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给 B24B55/00 用于磨床或抛光机的安全装置；配合磨床或抛光机使磨具或机械部件保持良好工作状态的附件 B24B55/02 用于冷却磨削面的设备，包括送进冷却液装置（与磨轮结合的入B24D）〔4〕	IPC分类号	B;2;4;B;5;5;/;0;2;;;B;2;4;B;4;1;/;0;4;7查看分类表>
申请人	苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司	申请人地址	江苏省苏州市高新区昆仑山路68号变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司	当前权利人	苏州赫瑞特电子专用设备科技有限公司
发明人	乔卫民;李方俊;翟新;马艳
代理机构	南京经纬专利商标代理有限公司	代理人	曹毅

摘要

本发明是一种抛光机的水冷下抛光盘结构，包括下盘工作盘，在所述下盘工作盘的一端侧设有下盘基盘，所述下盘基盘与下盘工作盘之间的结合面处形成冷却腔，在下盘基盘上分别设有与冷却腔连通的进水口和出水口。本发明的水冷结构避免了冷却水走捷径，只有在冷却水充满腔体后才能从出水口流出，确保了冷却水能对抛盘进行充分冷却，及时带走因加工而产生的热量，对抛盘起到了强制冷却的作用，较传统的被动式冷却更可靠，并可以结合精密的测温系统及冷却水流量调节系统，实现抛盘温度的精密控制。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供