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非易失性存储器单元的阵列及形成非易失性存储器单元的阵列的方法

发明专利有效专利
  • 申请号:
    CN201180065042.8
  • IPC分类号:H01L27/115;H01L21/8247
  • 申请日期:
    2011-12-22
  • 申请人:
    美光科技公司
著录项信息
专利名称非易失性存储器单元的阵列及形成非易失性存储器单元的阵列的方法
申请号CN201180065042.8申请日期2011-12-22
法律状态授权申报国家中国
公开/公告日2013-09-18公开/公告号CN103314439A
优先权暂无优先权号暂无
主分类号H01L27/115
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IPC分类号H;0;1;L;2;7;/;1;1;5;;;H;0;1;L;2;1;/;8;2;4;7查看分类表>
申请人美光科技公司申请人地址
美国爱达荷州 变更 专利地址、主体等相关变化,请及时变更,防止失效
权利人美光科技公司当前权利人美光科技公司
发明人增涛·T·刘;戴维·H·威尔士
代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司代理人宋献涛
摘要
本发明揭示一种非易失性存储器单元,其包含第一及第二电极。可编程材料及选择装置以串联方式被接纳于所述第一及第二电极之间且与所述第一及第二电极串联。电流传导材料以串联方式位于所述可编程材料与所述选择装置之间且与所述可编程材料及所述选择装置串联。本发明揭示一种此类非易失性存储器单元的垂直堆叠层的阵列。本发明揭示形成非易失性存储器单元的阵列的方法。

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