铜深腐蚀方法

发明专利无效专利

申请号：
CN99805102.0
IPC分类号：--
申请日期：
1999-03-01
申请人：
应用材料有限公司

基础信息

权利要求

说明书

PDF全文

法律信息

引证文献

著录项信息

专利名称	铜深腐蚀方法
申请号	CN99805102.0	申请日期	1999-03-01
法律状态	权利终止	申报国家	中国
公开/公告日	2001-05-30	公开/公告号	CN1297579
优先权	暂无	优先权号	暂无
主分类号	暂无	IPC分类号	暂无查看分类表>
申请人	应用材料有限公司	申请人地址	美国加利福尼亚变更专利地址、主体等相关变化，请及时变更，防止失效
权利人	应用材料有限公司	当前权利人	应用材料有限公司
发明人	叶雁;D·X·马
代理机构	中国国际贸易促进委员会专利商标事务所	代理人	段承恩

摘要

本发明提供一种腐蚀铜层的方法，该方法能够去除希望的导电互连结构的不需要的膜部分，同时避免结构的过腐蚀和在被腐蚀铜层表面上形成侵蚀表面沾污。深腐蚀所淀积的铜层到含有填充有铜的沟槽和通道的上或“场”表面。可以利用低温区，主要利用铜表面的物理轰击，在衬底表面上进行铜层深腐蚀。或者，在约150℃的高温区，利用三种不同的腐蚀剂，进行深腐蚀。腐蚀等离子体可以仅由非反应气体形成，仅由产生氯或氟等反应物质的气体形成，或可由用于调节选择性和腐蚀速率的非反应气体的组合形成。

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有引用任何外部专利数据！

序号	公开(公告)号	公开(公告)日	申请日	专利名称	申请人
该专利没有被任何外部专利所引用！

我浏览过的专利

专利服务由北京酷爱智慧知识产权代理公司提供